[发明专利]用于控制具有可调电容的电容器的设备

权利要求书

1.一种电子设备，包括：

第一电容器(CV)，具有可通过施加偏置电压(VBIAS)调节为设置点值的电容；

第二电容器(CV’)，具有可通过施加偏置电压调节为设置点值的电容，所述第二电容器(CV’)被配置为接收与所述第一电容器(CV)相同的偏置电压(VBIAS)；以及

控制电路(121)，能够接收所述设置点值，并在考虑表示所述第二电容器(CV’)的电容的量的情况下生成所述偏置电压(VBIAS)。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一电容器(CV)和所述第二电容器(CV’)被匹配以基本具有相同的温度变化。

3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一电容器(CV)和所述第二电容器(CV’)在制造差量内相同。

4.根据权利要求1所述的设备，其中，所述控制电路(121)包括：第一电路(205)，所述第一电路与所述第二电容器(CV’)一起形成能够生成第一频率(fVCO)的振荡器，所述第一频率根据所述第二电容器(CV’)的电容而变化；以及反馈环路(209，217)，能够调节所述偏置电压(VBIAS)，以利用第二参考频率(fREF)控制所述第一频率(fVCO)。

5.根据权利要求4所述的设备，其中，所述第一电路(205)包括可调电阻器(RVCO)，所述第一频率(fVCO)的值还取决于所述可调电阻器(RVCO)的值。

6.根据权利要求5所述的设备，其中，所述可调电阻器(RVCO)的值根据所述设置点值来设置。

7.根据权利要求5所述的设备，其中，所述控制电路(121)包括第二电路(201)，所述第二电路与所述设备的第三固定电容器(CREF)一起形成能够生成所述第二参考频率(fREF)的振荡器。

8.根据权利要求7所述的设备，其中，所述第三固定电容器(CREF)是金属-陶瓷-金属电容器。

9.根据权利要求7所述的设备，其中，所述第二电路(201)包括不可调电阻器(RREF)，所述第二参考频率(fREF)的值还取决于所述不可调电阻器(RREF)的值。

10.根据权利要求9所述的设备，其中，所述可调电阻器(RVCO)和所述不可调电阻器(RREF)被匹配以基本具有相同的温度变化。

11.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一电容器(CV)和所述第二电容器(CV’)被集成在第一芯片(101)中，所述第一芯片包括：

第一端子(103)和第二端子(105)，耦合至所述第一电容器(CV)的电极；

第三端子(107)，施加所述偏置电压(VBIAS)；以及

第四端子(111)，耦合至所述第二电容器(CV’)的电极。

12.根据权利要求11所述的设备，其中，所述控制电路(121)被集成在不同于所述第一芯片(101)的第二芯片中。

13.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一电容器和所述第二电容器包括钡-锶-钛电容器。

14.根据权利要求1所述的设备，其中，所述控制电路包括：

第一振荡器电路，耦合到所述第二电容器并被配置为生成第一频率，所述第一频率根据所述第二电容器的电容而变化；

第二振荡器电路，耦合到参考电容器并被配置为生成第二频率，所述第二频率根据所述参考电容器的电容是固定的；以及

频率差电路，被配置为接收所述第一频率和所述第二频率，并且生成指示所述第一频率和所述第二频率之差的幅度的控制信号；

其中从所述控制信号导出所述偏置电压。