[发明专利]一种高磁场下微型潘宁离子源有效

专利信息
申请号: 201610615061.8 申请日: 2016-07-29
公开(公告)号: CN106098517B 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 贾先禄;宋国芳;张天爵 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: H01J37/08 分类号: H01J37/08;H05H7/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 磁场 微型 离子源
【说明书】:

技术领域

发明属于超导回旋加速器技术领域,具体涉及一种高磁场下微型潘宁离子源

背景技术

回旋加速器是利用磁场和电场共同使带电粒子作回旋运动,在运动中经高频电场反复加速的装置,是高能物理中的重要仪器,其中超导等时性回旋加速器(超导回旋加速器的一个分支)是目前医用质子治疗加速器的核心设备。医用质子治疗加速器能够实现用微观世界中的质子、重离子射线治疗肿瘤,是当今世界最尖端的放射治疗技术,仅有个别发达国家掌握并应用该技术。

在超导等时性回旋加速器中,离子源技术是一项关键技术(离子源是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置)。离子源是束流的源头,决定着束流品质,也直接影响着超导等时性回旋加速器的性能。但同时,也是超导等时性回旋加速器的一个难点,主要困难表现在以下三方面:

1.超导等时性回旋加速器的磁场强度约为2.3T,离子源的束流通过高频电压直接引出,在大约14kV高频电压下,束流在加速器中第一圈的束流直径约φ10mm,这就直接决定了离子源的安装空间不能大于5mm,同时由于离子源的引出缝隙对应着高频腔(高频腔用于为束流中的带电粒子加速提供加速能量),也就决定了离子源有效空间约为φ5mm,因此超导等时性回旋加速器的离子源的零部件尺寸相对传统离子源小得多,结构紧凑,加工、安装难度大。

2.在2.3T强度的磁场下,离子源的起弧状态、离子源对气流量的要求、引出电压对束流的影响等问题都与低磁场状态不同。

3.离子源需要在真空环境中工作,由于整体结构非常小,其真空度比较难达到较高真空。

发明内容

针对超导等时性回旋加速器离子源的是难点,本发明的目的是提供一种能够安装在狭小安装空间内、在磁场强度高于2T的环境下稳定工作的高品质微型离子源。

为达到以上目的,本发明采用的技术方案是一种高磁场下微型潘宁离子源,包括通过阳极支架设置在一对能够产生高磁场的电磁铁之间的中空的阳极筒,所述阳极筒两端设有一对阴极,所述阴极通过第一绝缘件、第二绝缘件设置在所述阳极支架上,所述阳极支架中设有氢气管道,所述氢气管道能够将氢气送入所述阳极筒中,所述阴极上能够加载高频电压,其中,所述阳极筒的长为50mm,内腔直径为2.3mm,筒壁厚度为0.75mm,筒体一侧设有长6-10mm、宽0.5mm的引出缝;所述阴极、第一绝缘件、第二绝缘件、阳极支架的出气不影响所述潘宁离子源中的真空度;所述出气是指材料在真空中放出气体。

进一步,所述阳极筒采用耐高温高压、低出气的钨铜合金制作。

进一步,所述阴极采用低出气的100%纯度的钽制作,所述阴极加载的高频电压为80kV。

进一步,所述第一绝缘件、第二绝缘件采用耐高温高压、低出气的陶瓷材料制作。

进一步,所述阳极支架采用耐高温高压、低出气的钨铜合金材料制作。

进一步,所述电磁铁的磁场强度为2.3T。

进一步,所述阳极支架有两个,对称设置在所述电磁铁的内侧;所述阳极筒的两端分别密封设置在两个所述阳极支架中;两个所述阴极通过所述第一绝缘件分别密封设置在两个所述阳极支架中;所述阳极筒两端的空间分别与两个所述阴极连通。

进一步,所述氢气管道设置在其中一个所述阳极支架内部。

更进一步,所述氢气管道的直径为外径2mm。

进一步,所述氢气为高纯氢气,输入压力是2个大气压。

本发明的有益效果在于:

1.结构紧凑,能够设置在微小狭窄的空间内,能够满足超导等时性回旋加速器的设计需求。

2.提高了自由电子的运动轨迹,提高了电离效率,能够在很低的气压下发生放电产生等离子体。

附图说明

图1是本发明具体实施方式中所述一种高磁场下微型潘宁离子源的剖视图;

图中:1-阴极,2-第一绝缘件,3-阳极支架,4-电磁铁,5-阳极筒,6-磁场方向,7-氢气管道,8-引出缝,9-第二绝缘件。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步描述。

如图1所示,本发明提供的一种高磁场下微型潘宁离子源,安装在超导等时性回旋加速器的电磁铁4中,由阴极1、第一绝缘件2、阳极支架3、阳极筒5、氢气管道7、第二绝缘件9组成。其中,阴极1、第一绝缘件2、第二绝缘件9、阳极支架3的出气不影响离子源中的真空度。出气是指材料在真空中放出气体,离子源需要工作在真空环境中,材料的出气会对离子源内的电离反应产生非常不利影响。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国原子能科学研究院,未经中国原子能科学研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610615061.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top