[发明专利]靶材辅助配件的加工方法有效
| 申请号: | 201610524118.3 | 申请日: | 2016-07-04 |
| 公开(公告)号: | CN107570963B | 公开(公告)日: | 2019-05-10 |
| 发明(设计)人: | 姚力军;潘杰;相原俊夫;大岩一彦;王学泽;张良进 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号: | B23P13/02 | 分类号: | B23P13/02;B23Q3/06;C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 高静;吴敏 |
| 地址: | 315400 浙江省宁波*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 辅助 配件 加工 方法 | ||
一种靶材辅助配件的加工方法,包括:提供待加工件;对所述第一端面进行第一机械处理;在所述底壳中形成贯穿所述底壳的连接孔;在所述凹槽内设置垫块;设置垫块后通过第二机械处理去除所述第二端面和所述外周面的部分待加工件材料;在所述底壳的所述底面和吸附面上分别设置辅助夹具;设置辅助夹具后通过第三机械处理去除部分侧壁。在第二机械处理和第三机械处理过程中,所述垫块和所述辅助夹具分别起到支撑作用,能过有效降低所述底壳和所述斜壁发生扭曲变形的可能。
技术领域
本发明涉及机械加工领域,特别涉及一种靶材辅助配件的加工方法。
背景技术
在半导体制程的制造工序中,往往需要形成各种膜层。溅射工艺是半导体制造领域一种广泛使用的成膜工艺。
溅射工艺是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)中的一种,具体地,利用带电粒子轰击靶材,加速的粒子轰击固体表面时,粒子与固体表面原子发生碰撞,产生能量和动量的转移,使靶材表面原子从靶材表面溢出并沉积在基底表面形成膜层。
溅射工艺在进行过程中,会有反溅射物产生。由于靶材组件中起支撑作用的背板本身具有一定的附着力,所以反溅射物会附着在背板上,形成吸附颗粒物。但是随着工艺不断发展,某些溅射工艺在进行过程中产生的反溅射物比较多,会导致反溅射物无法顺利附着,从而发生吸附颗粒物剥落(Peeling)和尖端放电(Arcing)等问题,严重影响生产过程,导致产品报废。
为了减少溅射工艺过程中出现吸附颗粒物剥落和尖端放电的问题,在溅射设备中设置有靶材辅助配件,用于在溅射工艺过程中吸附颗粒物。但是现有技术中,所述靶材辅助配件加工难度较大,容易发生变形扭曲。
发明内容
本发明解决的问题是提供一种靶材辅助配件的加工方法,以减少靶材辅助配件发生扭曲变形的可能。
为解决上述问题,本发明提供一种靶材辅助配件的加工方法,包括:
提供待加工件,所述待加工件包括相背设置的第一端面和第二端面;对所述第一端面进行第一机械处理,去除第一端面部分待加工件材料在所述第一端面中形成凹槽,剩余待加工件构成壳体;所述壳体包括围成所述凹槽的底壳、以及位于所述底壳边缘区域且凸出于所述底壳的侧壁,所述底壳具有朝向所述凹槽的底面,所述侧壁具有背向所述凹槽的外周面;在所述底壳中形成贯穿所述底壳的连接孔;在所述凹槽内设置垫块;设置垫块后通过第二机械处理去除所述第二端面和所述外周面的部分待加工件材料,以减薄所述底壳和所述侧壁,分别形成吸附面和斜壁;在所述底壳的所述底面和吸附面上分别设置辅助夹具,使所述辅助夹具通过所述连接孔与所述底壳固定连接;设置辅助夹具后通过第三机械处理去除部分侧壁。
可选的,所述辅助夹具包括第一固定件、第二固定件和锁紧件,所述第一固定件具有第一面,所述第二固定件具有第二面;在所述底壳的所述底面和吸附面上分别设置辅助夹具的步骤包括:使所述第一固定件的第一面与吸附面相对贴合,使所述第二固定件的第二面与所述底面相对贴合;使所述锁紧件穿过所述连接孔并锁紧所述第一固定件、底壳和所述第二固定件。
可选的,所述第一固定件和所述第二固定件上设置有相对应的螺孔,所述螺孔与所述连接孔相对应;所述螺孔内具有内螺纹;所述锁紧件为表面具有外螺纹的螺栓,所述外螺纹与所述螺孔内的内螺纹相对应,实现所述第一固定件和所述第二固定件锁紧的步骤包括,使所述螺栓穿过所述第二固定件上的螺孔以及所述连接孔,通过螺旋方式与所述第一固定件上的螺孔连接,实现所述第一固定件和所述第二固定件的锁紧。
可选的,在所述壳体内设置垫块的步骤中,所述垫块的材料为铝或不锈钢。
可选的,进行第一机械处理的步骤中,所述侧壁包括与所述底壳相连的楔形壁以及与所述楔形壁相连的直壁;进行第二机械处理的步骤中,去除所述楔形壁厚度较大位置处的部分材料,使所述楔形壁背向所述凹槽的表面与朝向所述凹槽的表面平行,形成斜壁;进行第三机械处理的步骤中,去除所述直壁。
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