[发明专利]一种硅片清洗液配方

说明书

技术领域

本发明涉及光伏领域，尤其涉及一种硅片清洗液配方。

背景技术

随着社会的发展，能源危机日益严重的今天，开发利用新能源已经越来越受到人们的关注，太阳能由于其无污染、可再生、无地域性等优点，越来越受到人们的青睐，太阳能产业的发展越来越快。而伴随着太阳能光伏产业的成熟，硅片的使用也越来越多。

清洗最为硅片的生产工序之一，其清洗的干净与否对硅片的使用性能有着很大的影响。清洗的主要目的是为了清洗掉切割过程中产生的沙粒，残留的切削磨料、金属离子及指纹等，使硅片表面达到无腐蚀、无氧化、无残留等技术指标。现有市场上采用的硅片清洗液存在清洗效果差的问题，由此，急需解决。

发明内容

本发明的目的在于针对上述问题，提供一种硅片清洗液配方，以解决现有硅片清洗液清洗效果差的问题。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现：

一种硅片清洗液配方，由以下重量份数的原料制成：

柠檬酸1～3份，十二烷基苯磺酸钠15～25份，乙醇6～10份，三乙醇胺3～5份，双氧水1～3份，其余为水。

作为本发明的一种优选方案，柠檬酸12份，十二烷基苯磺酸钠20份，乙醇8份，三乙醇胺4份，双氧水2份，其余为水。

作为本发明的一种优选方案，所述水为去离子水。

本发明的有益效果为，所述一种硅片清洗液配方简单易操作，具有去污力强、清洗效果好的特点。

具体实施方式

下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。可以理解的是，此处所描述的实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。

实施例1

于本实施例中，一种硅片清洗液配方，由以下重量份数的原料制成：

柠檬酸1份，十二烷基苯磺酸钠15份，乙醇6份，三乙醇胺3份，双氧水1份，其余为去离子水。

实施例2

于本实施例中，一种硅片清洗液配方，由以下重量份数的原料制成：

柠檬酸3份，十二烷基苯磺酸钠25份，乙醇10份，三乙醇胺5份，双氧水3份，其余为去离子水。

实施例3

于本实施例中，一种硅片清洗液配方，由以下重量份数的原料制成：

柠檬酸2份，十二烷基苯磺酸钠20份，乙醇8份，三乙醇胺4份，双氧水2份，其余为去离子水。

以上实施例只是阐述了本发明的基本原理和特性，本发明不受上述实施例限制，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还有各种变化和改变，这些变化和改变都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书界定。