[发明专利]网版图案及其制造方法在审
| 申请号： | 201610374057.7 | 申请日： | 2016-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN107443947A | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 蔡富得 | 申请（专利权）人： | 仓和股份有限公司;仓和精密制造（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | B41N1/00 | 分类号： | B41N1/00;B41C1/00 |
| 代理公司： | 北京华夏博通专利事务所(普通合伙)11264 | 代理人： | 刘俊 |
| 地址： | 中国台湾桃园市龟山*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 版图 及其 制造 方法 | ||
1.一种网版图案的制造方法，其特征在于，包含：
形成高分子层于具有经纬组织的网布上；
形成通孔于该高分子层；以及
以第一雷射去除该网布的部分经纬组织而形成连通该通孔的无经纬组织区。
2.根据权利要求1所述网版图案的制造方法，其特征在于，以涂布、贴合、或热压将该高分子层形成于该网布上。
3.根据权利要求1所述网版图案的制造方法，其特征在于，该网布嵌入该高分子层。
4.根据权利要求1所述网版图案的制造方法，其特征在于，以曝光显影法去除部分的该高分子层形成该通孔。
5.根据权利要求1所述网版图案的制造方法，其特征在于，以第二雷射去除部分的该高分子层形成该通孔，该第二雷射的功率不同于该第一雷射的功率。
6.根据权利要求1所述网版图案的制造方法，其特征在于，该无经纬组织区的宽度不大于该通孔的宽度。
7.一种网版图案，其特征在于，包含：
网布，具有经纬组织、第一无经纬组织区以及第二无经纬组织区，其中该第二无经纬组织区的宽度大于该第一无经纬组织区的宽度；以及
高分子层，形成于该网布上，具有连通该第二无经纬组织区的通孔。
8.根据权利要求7所述的网版图案，其特征在于，该第二无经纬组织区的宽度不大于该通孔的宽度。
9.根据权利要求7所述的网版图案，其特征在于，该网布嵌入该高分子层，而该第二无经纬组织区位于该通孔之内。
10.根据权利要求7所述的网版图案，其特征在于，又包含：粘着层，设置于该网布以及该高分子层之间。
11.根据权利要求7所述的网版图案，其特征在于，该通孔又连通该第一无经纬组织区。
12.根据权利要求7所述的网版图案，其特征在于，该高分子层又具有连通该第一无经纬组织区的第一通孔。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于仓和股份有限公司;仓和精密制造（苏州）有限公司，未经仓和股份有限公司;仓和精密制造（苏州）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610374057.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于生成打样的方法
- 下一篇：带有印刷层的板及显示装置
