[发明专利]光学玻璃研磨抛光系统有效

专利信息
申请号: 201610366384.8 申请日: 2016-05-30
公开(公告)号: CN105834860B 公开(公告)日: 2018-03-02
发明(设计)人: 陈洪良 申请(专利权)人: 苏州微米光学科技有限公司
主分类号: B24B13/00 分类号: B24B13/00;B24B13/005;B24B27/00;B24B37/00;B24B37/11;B24B37/34
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司32224 代理人: 董建林
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 光学玻璃 研磨 抛光 系统
【权利要求书】:

1.一种光学玻璃研磨抛光系统,其特征在于,包括交替排列的抛光机构和研磨机构,所述抛光机构包括基座、固定于基座的支撑杆、抛光辅具和抛光工作盘,抛光辅具与支撑杆相连,所述研磨机构通过摇杆与支撑杆末端相连,支撑杆末端底部还设有滑块,与支撑杆末端相邻的另一抛光机构具有滑台,所述支撑杆连有第一动力装置,在所述第一动力装置的带动下,滑块沿滑台滑动,抛光辅具和研磨机构随支撑杆摆动,所述研磨机构包括与摇杆相连的偏心研磨轮。

2.根据权利要求1所述的一种光学玻璃研磨抛光系统,其特征在于,所述抛光工作盘包括装有待磨玻璃的上料盘、装有抛光垫的下磨盘和抛光浆池,下磨盘置于所述抛光浆池内,且所述下磨盘连有带动下磨盘自传的第二动力装置,所述抛光辅具末端具有抵触部,所述抵触部连有触棒,所述上料盘顶部具有与所述触棒相抵触的连接块。

3.根据权利要求2所述的一种光学玻璃研磨抛光系统,其特征在于,所述抛光辅具还包括辅具主体和定位机构,所述辅具主体上具有限高孔,所述抵触部设于所述辅具主体,所述定位机构一端套设于所述支撑杆上,另一端沿所述限高孔向下延伸,调整好所述抵触部相对于支撑杆的高度差后,利用紧固件穿过限高孔抵住定位机构定位。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种光学玻璃研磨抛光系统,其特征在于,所述滑台为具有弧度的板件,所述滑台表面具有沿滑动方向设置的凹槽,所述凹槽呈曲线或折线,所述凹槽内装有润滑液。

5.根据权利要求2所述的一种光学玻璃研磨抛光系统,其特征在于,所述上料盘包括盘壳和载具,所述载具部分容置于盘壳内,所述载具表面粘接有若干待磨玻璃。

6.根据权利要求1所述的一种光学玻璃研磨抛光系统,其特征在于,所述抛光机构和研磨机构排列成环形或线形生产线。

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