[发明专利]层体系以及用于制造层体系的涂覆方法在审
申请号: | 201610328985.X | 申请日: | 2009-07-02 |
公开(公告)号: | CN107034465A | 公开(公告)日: | 2017-08-11 |
发明(设计)人: | J.韦特;G.埃肯斯 | 申请(专利权)人: | 欧瑞康表面解决方案股份公司;普费菲孔 |
主分类号: | C23C28/00 | 分类号: | C23C28/00;C23C28/04;C23C14/06;C23C14/22;C23C14/32;C23C14/34 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 周铁,林森 |
地址: | 瑞士普*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 体系 以及 用于 制造 方法 | ||
1.用于在基材(100)表面、特别是在成形工具表面上形成表面层的层体系,其特征在于,该层体系包括至少一个组成如下的第一表面层:
-(V97Zr3)α(N)β
-(V97Zr3)α(N50C50)β
-(V95Ni5)α(N65C30O5)β
-(V96Ce4)α(N25C65O10)β
-(V97Zr1Si1B1)α(N)β
其中层中所有原子的总和(α+β)=100 at%,其中α/β=1。
2.权利要求中1所述的层体系,其中在所述表面层与基材之间还提供了另一个部分层,该部分层特别是直接施加在所述基材表面上的粘合层。
3.权利要求2所述的层体系,其中所述部分层为组成为V97Zr3的粘合层。
4.权利要求2或3所述的层体系,其中所述部分层为组成为V80Zr20的粘合层。
5.权利要求2-4中任一项所述的层体系,其中所述部分层的组成为(Al55Ti45)γNδ,其中γ + δ = 100 at%且40 ≤ γ ≤ 60,其中优选地γ ≈ 50,且所述部分层特别是为粘合层,尤其是直接施加在基材上的粘合层。
6.权利要求2-5中任一项所述的层体系,其中所述部分层的组成为(Al69Cr29Mg1Si1)γNδ,其中γ + δ = 100 at%且40 ≤ γ ≤ 60,且优选地γ ≈ 50,其中所述部分层特别是为粘合层,尤其是直接施加在基材上的粘合层。
7.权利要求2-6中任一项所述的层体系,其中所述部分层的组成为(Al60Cr30Mg5Si5)γNδ,其中γ + δ = 100 at%且40 ≤ γ ≤ 60,且优选地γ ≈ 50,其中所述部分层特别是为粘合层,尤其是直接施加在基材上的粘合层。
8.权利要求2-7中任一项所述的层体系,其中所述部分层的组成为(Cr91Ni3Al3Si3)γNδ,其中γ + δ = 100 at%且40 ≤ γ ≤ 60,且优选地γ ≈ 50,其中所述部分层特别是为粘合层,尤其是直接施加在基材上的粘合层。
9.权利要求2-8中任一项所述的层体系,其中所述部分层为TiN部分层,特别是粘合层,尤其是直接施加在基材上的粘合层。
10.权利要求2-9中任一项所述的层体系,其中所述部分层为Cr部分层,特别是粘合层,尤其是直接施加在基材上的粘合层。
11.前面权利要求中任一项所述的层体系,其中所述层体系和/或部分层和/或表面层的HK 0.025硬度为1500-3500,特别是1900-3100,尤其是2100-2900。
12.前面权利要求中任一项所述的层体系,其中所述层体系和/或部分层和/或表面层的厚度在0.01μm-100μm之间,特别是在0.1μm-8μm之间,并优选地在0.2μm-7.5μm之间。
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