[发明专利]沉积后的晶片清洁配方在审
| 申请号： | 201610169603.3 | 申请日： | 2010-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN105820886A | 公开（公告）日： | 2016-08-03 |
| 发明（设计）人： | 阿尔图尔·科利奇 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | C11D1/88 | 分类号： | C11D1/88;C11D3/04;C11D3/06;C11D3/20;C11D3/24;C11D3/34;C11D3/36 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;李献忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 沉积 晶片 清洁 配方 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朗姆研究公司，未经朗姆研究公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610169603.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种壮阳蜂蜜酒及其制备方法
- 下一篇：包含阳离子聚合物的可溶性单位剂量制品
