[发明专利]一种具有无理转速比的研磨抛光机驱动装置有效
申请号: | 201610141361.7 | 申请日: | 2016-03-11 |
公开(公告)号: | CN105773403B | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 文东辉;陈珍珍;姬孟托;蔡东海;王扬渝 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34;B24B37/07;B24B47/12;B24B41/02 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人: | 吴秉中 |
地址: | 310014 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 主动轴 从动轴 驱动装置 转动 研磨盘 托盘 伺服电机 万向联轴器 研磨抛光机 转速比 生产成本低 运动学原理 闭合 驱动 加工轨迹 科学问题 竖直安装 研磨加工 传统的 同步带 支撑盘 上端 下端 紧凑 加工 | ||
本发明公开了一种具有无理转速比的研磨抛光机驱动装置,包括机架、主动轴、从动轴、驱动主动轴转动的伺服电机和用于支撑盘的研磨盘托盘,伺服电机固定在机架内部,伺服电机通过同步带连接主动轴并驱动主动轴转动,从动轴竖直安装在机架上,研磨盘托盘固定在从动轴的上端,从动轴的下端通过万向联轴器连接主动轴,主动轴与从动轴之间呈135度夹角,主动轴转动时通过万向联轴器带动从动轴转动从而带动固定在研磨盘托盘上的研磨盘转动。本发明结构简单紧凑,生产成本低,能够从研磨加工运动学原理上解决了加工轨迹线循环闭合的科学问题;作为一种无理转速的驱动装置,在加工精度上相比传统的有理转速的驱动装置有很大的提高。
技术领域
本发明涉及一种平面研磨抛光领域,尤其涉及一种具有无理转速比的研磨抛光机驱动装置,主要应用于电子、通信、计算机、激光、航天航空等技术领域。
背景技术
高精度控形、低损伤控形是磨粒加工领域发展的重要方向。平面研磨加工是获取光学元件、蓝宝石衬底、单晶硅衬底等高精度表面的重要手段之一,在电子、通信、计算机、激光、航空航天等技术领域有着广泛的应用。
平面研磨加工须确保平面度、表面粗糙度、表层及亚表层位错形态和残余应力等,高精度平面研磨加工是超光滑抛光加工的必备基础。据统计:由于研磨加工后工件品质不良,导致蓝宝石抛光加工的一次成品率约70%、高频石英晶片抛光加工合格率约80%,抛光加工中衬底的橘皮、厚度不均匀、踏边等缺陷都与前期研磨加工表面形状精度息息相关,如何实现高效率、高精度控形的平面研磨加工是当前的主要技术瓶颈。
传统的研磨抛光机在加工工件时由于磨粒在工件上的研磨轨迹重复,很容易导致工件表面的粗糙度下降、抛光表面形成波纹以及橘皮等缺陷,因此,创新平面研磨加工运动学方法,提高平面研磨加工的表面质量,逐步提升该过程的高精度控形技术水平,对丰富超光滑低损伤表面的磨粒加工理论具有重要的理论意义和科学价值。
发明内容
本发明的目的在于克服传统的研磨抛光机在加工工件时由于磨粒在工件上的研磨轨迹重复而导致表面粗糙度下降、抛光表面形成波纹以及橘皮等缺陷的不足,提出了一种具有无理转速比的研磨抛光机驱动装置。
本发明通过以下技术方案来实现上述目的:一种具有无理转速比的研磨抛光机驱动装置,包括机架、主动轴、从动轴、驱动主动轴转动的伺服电机和用于支撑盘的研磨盘托盘,所述伺服电机固定在机架内部,伺服电机通过同步带连接主动轴并驱动主动轴转动,所述从动轴竖直安装在机架上,研磨盘托盘固定在从动轴的上端,所述从动轴的下端通过万向联轴器连接主动轴,所述主动轴与从动轴之间呈135度夹角,所述主动轴转动时通过万向联轴器带动所述从动轴转动从而带动固定在研磨盘托盘上的研磨盘转动。
进一步的,所述从动轴套装在从动轴轴承座上,所述从动轴轴承座通过从动轴轴套固定在机架上,所述从动轴通过深沟球轴承和角接触球轴承连接从动轴轴承座。
进一步的,所述从动轴上还套装有用于将从动轴与从动轴轴承座密封连接的密封圈,所述密封圈设有上下两个。
进一步的,所述机架内还设有电机支撑板,所述电机支撑板呈45°倾斜设置在机架内部,所述主动轴通过B6905ZZ轴承和主动轴轴承座固定在电机支撑板上,主动轴垂直安装在电机支撑板上,主动轴的下端设有从动带轮,电机的电机头上固定有主动带轮,主动带轮和从动带轮通过同步带连接。
进一步的,所述电机支撑板的两端焊接在所述机架内部。
进一步的,所述从动轴轴套焊接在所述机架上。
进一步的,所述机架下端设有四个机脚。
进一步的,所述伺服电机的上端固定有电机支架,所述伺服电机的上端设有电机安装板,所述电机安装板通过电机支架将所述伺服电机垂直固定在电机支撑板上。
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