[发明专利]一种有机磷光器件的制备方法

权利要求书

1.一种有机磷光器件的制备方法，其特征在于该方法的制备步骤如下：

第一步：将ITO透明导电玻璃基片在清洗剂中超声处理后，进行清洗，再烘烤至干燥，然后用紫外灯和臭氧进行处理，再把处理过的ITO透明导电玻璃基片置于真空腔内，抽真空至3.0×10^-4～4.0×10^-4Pa；

第二步：在ITO透明导电玻璃基片上真空蒸镀HATCN层，形成空穴注入层，其中蒸镀速率为0.3 Å/s，镀膜厚度为10 nm；

第三步：在空穴注入层上蒸镀由TAPC或TCTA形成的具有空穴传输层和电子阻挡作用的复合层，其中蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为45nm，或者在空穴注入层上依次蒸镀NPB和TCTA形成空穴传输层和电子阻挡层，其中NPB的蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为35nm，TCTA的蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为10 nm；

第四步：在第三步制备得到的复合层或电子阻挡层上采用双源蒸镀的方法，将DBF-DMS作为主体材料，fac-Ir(iprpmi)₃作为染料制备有机发光层，其中蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为20 nm，或者将DBF-DMS作为主体材料，fac-Ir(iprpmi)₃和PO-01作为染料制备有机发光层，其中蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为20nm；

第五步：在第四步制备得到的有机发光层上蒸镀TmPyPB，形成具有空穴阻挡和电子传输作用的电子传输层，其中蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为45nm，或者在有机发光层上依次蒸镀DBF-DMS和Alq₃形成空穴阻挡层和电子传输层，其中DBF-DMS的蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为10 nm，Alq₃的蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为35nm；

第六步：在第五步中制备得到的电子传输层上依次真空蒸镀Liq层和Al层，形成阴极，即得有机磷光器件，其中Liq层的厚度为2nm，Al层的厚度为120nm。

2.根据权利要求1所述的一种有机磷光器件的制备方法，其特征在于：所述第一步中清洗的步骤为先用去离子水冲洗，再依次用去离子水、丙酮、乙醇反复清洗三次。

3.根据权利要求1所述的一种有机磷光器件的制备方法，其特征在于：所述第一步中将真空腔内的真空抽至3.5×10^-4Pa。

4.根据权利要求1所述的一种有机磷光器件的制备方法，其特征在于：所述第四步中将DBF-DMS作为主体材料，fac-Ir(iprpmi)₃作为染料制备有机发光层时，f ac-Ir(iprpmi)₃的掺杂浓度为12%。

5.根据权利要求1所述的一种有机磷光器件的制备方法，其特征在于：所述第四步中将DBF-DMS作为主体材料，fac-Ir(iprpmi)₃和PO-01作为染料制备有机发光层时，fac-Ir(iprpmi)₃的掺杂浓度为12%，PO-01的掺杂浓度为1%。