[发明专利]一种PCB双面开窗区域过孔及半塞处理方法在审

专利信息
申请号: 201610126136.6 申请日: 2016-03-07
公开(公告)号: CN105704920A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 陶燕 申请(专利权)人: 上海斐讯数据通信技术有限公司
主分类号: H05K1/11 分类号: H05K1/11;H05K3/40
代理公司: 上海硕力知识产权代理事务所 31251 代理人: 郭桂峰
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 pcb 双面 开窗 区域 处理 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及PCB技术领域,尤其涉及一种PCB双面开窗区域过孔及半塞 处理方法。

背景技术

在PCB制板流程中,PCB过孔塞孔处于防焊工序。考虑PCB板散热问题, 在发热芯片附近会做绿油开窗处理,非开窗区域的过孔做全塞处理。

开窗面的过孔,受药水攻击,部分油墨会溶解,因此,单面开窗的过孔能 达到半塞效果;而双面开窗的过孔,过孔两面都受到药水攻击,过孔中的油墨 全部溶解,则无法塞孔。

若过孔不塞孔处理,在后续的PCB贴片环节,锡膏遇热融化后,会沿着 过孔漏锡到背面,造成锡膏量流失而焊接不良,影响器件性能,甚至直接影响 芯片的启动。

发明内容

本发明的目的是针对上述技术问题,提供了一种PCB双面开窗区域过孔 及半塞处理方法,其结构合理,操作方便,提高过孔的塞孔质量,避免了PCB 过孔漏锡的问题,保证了PCB板的焊接质量。

本发明的技术方案

为解决上述技术问题,本发明提供的一种PCB双面开窗区域过孔,其位 于底面与顶面的公共过孔处,过孔的周边设置有挡圈。

进一步地,所述的挡圈设置在PCB的非焊接面所在的过孔周边。

进一步地,所述的挡圈与过孔为同心圆,挡圈在过孔的外侧。

进一步地,所述的挡圈的外径尺寸与过孔的内径尺寸的差值为3mil。

一种上述PCB双面开窗区域过孔半塞处理方法,包括以下步骤:

S1,打开PCB文件,检测无误后,生成光绘文件;

S2,检查、定位双面开窗区域的过孔;

S3,判定非焊接面是顶面还是底面;

S4,若底面为非焊接面,在底面上的过孔处设置挡圈;若顶面为非焊接面, 在顶面上的过孔处设置挡圈。

进一步地,所述的挡圈的设置是在S1中生成的光绘文件上处理的。

本发明有益效果:

本发明提供的PCB双面开窗区域过孔及半塞处理方法,其结构合理,操 作方便,提高过孔的塞孔质量,避免了PCB过孔漏锡的问题,保证了PCB板 的焊接质量。

附图说明

图1是本发明结构示意图(不含挡圈);

图2是本发明结构示意图;

图3是本发明之过孔半塞处理方法流程图。

其中:

1.底面;2.顶面;3.过孔;4.挡圈。

具体实施方式

下面结合具体实施例和附图对本发明一种PCB双面开窗区域过孔及半塞 处理方法进行详细说明:

图1-2是本发明结构示意图,其位于底面1与顶面2的公共过孔3处,过 孔3的周边设置有挡圈4。

所述的挡圈4设置在PCB的非焊接面所在的过孔3周边;所述的挡圈4 与过孔3为同心圆,挡圈4在过孔3的外侧,其外径尺寸与过孔3的内径尺寸 的差值为3mil。

PCB双面开窗区域过孔半塞处理方法,图3是其流程图,该处理方法包括 以下步骤:

S1,打开PCB文件,检测无误后,生成光绘文件;

S2,检查、定位双面开窗区域的过孔3;

具体地,在光绘文件上,同时打开底面1,顶面2及钻孔层。底面1和顶 面2重叠位置的过孔,即为要查找的双面开窗区域过孔3。

S3,判定非焊接面是顶面2还是底面1;

S4,若底面1为非焊接面,在底面1上的过孔3处设置挡圈4;若顶面2 为非焊接面,在顶面2上的过孔3处设置挡圈4。

所述的挡圈4的设置是在S1中生成的光绘文件上处理的,挡圈4的外径 尺寸与过孔3的内径尺寸的差值为3mil。

本发明提供的PCB双面开窗区域过孔及半塞处理方法,其结构合理,操 作方便,提高过孔的塞孔质量,避免了PCB过孔漏锡的问题,保证了PCB板 的焊接质量。

本发明不局限于上述实施方式,任何人在本发明的启示下都可得出其他各 种形式的产品,但不论在其形状或结构上作任何变化,凡是具有与本申请相同 或相近似的技术方案,均落在本发明的保护范围之内。

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