[发明专利]一种陶瓷低温钎焊方法有效

专利信息
申请号: 201610097389.5 申请日: 2016-02-19
公开(公告)号: CN105541366B 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 肖勇;罗丹;姜少堃;黄尚宇;杜学铭;张元其;王文涛 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: C04B37/00 分类号: C04B37/00
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102 代理人: 崔友明
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 陶瓷 低温 钎焊 方法
【权利要求书】:

1.一种陶瓷低温钎焊方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)在陶瓷母材待焊接面镀活性金属镀层;

2)超声波改性活性金属镀层:将镀有活性金属镀层的陶瓷母材浸入熔Sn中;将超声波探头置于陶瓷母材的活性金属镀层表面上方,进行超声振动处理,得附有Sn金属表面涂覆层和改性金属中间镀层的陶瓷母材;

3)超声波辅助钎焊:将钎料置于上、下两块经步骤2)处理所得陶瓷母材的Sn金属表面涂覆层之间,下陶瓷母材的下表面放置在加热装置上,固定后,将超声波探头置于上陶瓷母材的上表面并施加压力,然后使用加热装置进行加热,使钎料完全融化;然后开启超声振动,继续保持压力至钎料完全凝固,冷却后取出所得焊接接头,完成钎焊过程;

步骤1)中所述活性金属镀层为Ni层、Ti层、Co层、Zr层、Cr层或Cu层。

2.根据权利要求1所述的陶瓷低温钎焊方法,其特征在于,所述陶瓷母材为氧化物陶瓷、碳化物陶瓷或氮化物陶瓷。

3.根据权利要求1所述的陶瓷低温钎焊方法,其特征在于,所述陶瓷母材待焊接面镀活性金属镀层采用的工艺为化学镀、电镀、物理气相沉积或化学气相沉积方法。

4.根据权利要求1中所述的陶瓷低温钎焊方法,其特征在于,步骤3)中所述钎料为Sn基或Zn基钎料。

5.根据权利要求1中所述的陶瓷低温钎焊方法,其特征在于,所述活性金属镀层的厚度为0.1~20μm。

6.根据权利要求1中所述的陶瓷低温钎焊方法,其特征在于,步骤2)中超声波探头与陶瓷母材的活性金属镀层表面之间的距离为10~3000μm;超声波振动频率为20~40kHz,振动时间为1~1000s,振幅为1~30μm;振动方向为垂直于陶瓷金属镀层表面。

7.根据权利要求1中所述的陶瓷低温钎焊方法,其特征在于,步骤3)中所述超声波探头施加的压力为0.1~10MPa。

8.根据权利要求1中所述的陶瓷低温钎焊方法,其特征在于,步骤3)中所述超声波振动频率为20~60kHz,振动时间为1~120s,振幅为5~25μm,振动方向为垂直于母材待焊表面。

9.根据权利要求1中所述的陶瓷低温钎焊方法,其特征在于,步骤3)中所述加热方式为感应加热、电阻加热、火焰加热或热风加热。

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