[发明专利]一种显示器件及其制备方法

权利要求书

1.一种显示器件，其特征在于，在厚度方向依次包括盖板、盖板底面涂覆的光学调整层以及显示屏，所述光学调整层包括叠加组合在一起的氮化钼子层与氧化硅子层，其中氮化钼子层位于盖板一侧，氧化硅子层位于显示屏一侧；所述光学调整层中，氮化钼子层的厚度为2～15nm，氧化硅子层的厚度为60～100nm；

所述显示器件还包括位于盖板与显示屏之间的用于遮住显示屏边框区域的遮蔽层，遮蔽层涂印于盖板底面，第一层光学调整层的氮化钼子层整面涂覆在印有遮蔽层的盖板底面上；或者遮蔽层涂印于最后一层光学调整层的氧化硅子层上；当遮蔽层涂印于盖板底面时，所述氮化钼子层的涂覆厚度不包括遮蔽层的厚度，即不包括嵌入遮蔽层所围成的中心显示区域部分的厚度。

2.根据权利要求1所述的一种显示器件，其特征在于，所述光学调整层为一层或重复叠加的多层。

3.根据权利要求2所述的一种显示器件，其特征在于，所述氮化钼子层为MoyNx，其中N原子数x与Mo原子数y的比值范围为：x：y＝(1.7～2)：3，所述氧化硅子层为SiwOz，其中O原子数z与Si原子数w的比值范围为：z：w＝(1.8～2)：1。

4.一种如权利要求1～3中任一项所述显示器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)在盖板底面涂覆光学调整层，或涂印遮蔽层；

2)在光学调整层上涂印遮蔽层，或在遮蔽层上涂覆光学调整层；

3)通过光学胶将步骤2)结束后的盖板涂有遮蔽层及光学调整层的一面与显示屏粘合在一起。

5.根据权利要求4所述显示器件的制备方法，其特征在于，所述光学胶为水胶或OCA。

6.根据权利要求5所述显示器件的制备方法，其特征在于，每一层所述光学调整层的涂覆过程为：先在盖板底面或前一层光学调整层的氧化硅子层上镀氮化钼子层，再在该氮化钼子层上镀氧化硅子层。