[发明专利]一种MOCVD反应腔室的清理装置及清理方法

权利要求书

1.一种MOCVD反应腔室的清理装置，至少包括：一承载盘、复数个均匀分布并铰接于承载盘上部边缘处的清理手臂，所述清理手臂处于静止状态时均向所述承载盘中心方向倾斜，且清理手臂与水平面的夹角为α，0°＜α＜90°，所述清理手臂通过旋转方式清理MOCVD反应腔室，其旋转速度n、承载盘的直径D以及清理手臂长度L之间的关系符合：，且。

2.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应腔室的清理装置，其特征在于：所述清理手臂包括支撑机构及安装于所述支撑机构表面的擦拭机构，所述擦拭机构用于清扫反应腔室内壁。

3.根据权利要求2所述的一种MOCVD反应腔室的清理装置，其特征在于：所述支撑机构与所述擦拭机构的总厚度H大于等于所述承载盘边缘至反应腔室内壁的距离H’。

4.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应腔室的清理装置，其特征在于：所述清理手臂的长度小于等于所述MOCVD反应腔室的垂直高度。

5.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应腔室的清理装置，其特征在于：所述承载盘下表面中心处有一凹槽。

6.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应腔室的清理装置，其特征在于：所述承载盘的直径小于所述MOCVD反应腔室的内径。

7.根据权利要求2所述的一种MOCVD反应腔室的清理装置，其特征在于：所述擦拭机构为无纺布、海绵、毛刷中的一种或者任意两者的组合。

8.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应腔室的清理装置，其特征在于：所述清理手臂的个数大于等于2。

9.一种MOCVD反应腔室的清理方法，至少包括以下步骤：

S1、提供一清理装置，所述清理装置至少包括一承载盘、复数个均匀分布并铰接于承载盘上部边缘的清理手臂，所述清理手臂处于静止状态时均向所述承载盘中心方向倾斜，且清理手臂与水平面的夹角为α，0°＜α＜90°；

S2、将步骤S1中的清理装置转移至MOCVD反应腔室中的承载盘旋转机构上；

S3、启动旋转机构，驱动所述清理装置进行旋转，所述清理手臂在离心力的作用下张开，贴紧所述反应腔室的内壁，对MOCVD反应腔室侧壁进行清扫；所述承载盘的转速n满足如下公式： ，D为承载盘的直径；L为清理手臂的长度；n为承载盘的转速；α为清理手臂与水平面的夹角，且 。

10.根据权利要求9所述的一种MOCVD反应腔室的清理方法，其特征在于：所述步骤S2还包括向MOCVD反应腔室通入氮气的过程。

11.根据权利要求9所述的一种MOCVD反应腔室的清理方法，其特征在于：所述步骤S3还包括开启MOCVD设备的尾气处理装置的步骤。