[发明专利]一种带背腔结构的平面螺旋天线在审

专利信息
申请号: 201610055964.5 申请日: 2016-01-27
公开(公告)号: CN105609960A 公开(公告)日: 2016-05-25
发明(设计)人: 杨青慧;赵志晨;张怀武;文岐业;刘元昆;安照辉;杜姗姗;刘银中 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01Q13/08 分类号: H01Q13/08;H01Q19/10;H01Q1/38
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 吴姗霖
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 带背腔 结构 平面 螺旋 天线
【说明书】:

技术领域

发明属于微波器件领域,具体涉及一种带背腔结构的平面螺旋天线。

背景技术

随着无线通信技术的快速发展,人们对高速无线通信提出了更高的要求。作 为一种短距离无线通信技术,超宽带(UWB)具有传输速率高、功耗低、安全性好、 抗多径能力强、成本低廉等优点,引起了人们前所未有的关注。平面螺旋天线是 一种超宽带天线,该天线在很宽的频带内具有良好的阻抗特性、方向图特性和圆 极化特性,在电子对抗领域得到了广泛的重视和应用。平面螺旋天线包括等角螺 旋天线和阿基米德螺旋天线,平面螺旋天线为平衡结构,当用同轴线等非平衡传 输线对其馈电时需要加巴伦来平衡电流。申请号为CN200810202640.5的中国专 利“带背腔的超宽带平面螺旋天线”中,提出了一种基于抛物曲面反射腔的平面 螺旋天线,但是该天线在0.36-6.83GHz内驻波比仅小于2,抗干扰能力较差;而 且随着应用频率的增长,其天线辐射损耗会增大,限制了其应用。

发明内容

本发明针对背景技术存在的缺陷,提出了一种新型的阶梯状背腔结构的平面 螺旋天线,该天线在8-18GHz内驻波比小于1.45,天线的发射和接收效率高。

本发明的技术方案如下:

一种带背腔结构的平面螺旋天线,包括输入输出端口8、指数渐变巴伦5、 平面螺旋天线1、介质板2和金属背腔7,所述指数渐变巴伦5包括平衡端6和 非平衡端4,所述平衡端6连接平面螺旋天线1的两臂3,所述非平衡端4连接 输入输出端口8,所述指数渐变巴伦5由金属背腔7包裹;其特征在于,所述金 属背腔7为阶梯状结构,阶梯由平衡端到非平衡端方向上呈上升趋势。

进一步地,所述平面螺旋天线1由两个中心对称的螺旋天线组成,且螺线的 宽度与螺线间的间隔相等,这样形成的互补结构,有利于阻抗的宽带特性。

进一步地,所述平面螺旋天线1采用印刷电路技术制作。

进一步地,所述指数渐变巴伦5为形成于介质基片上的宽度渐变的金属带, 包括平衡端6和非平衡端4,所述平衡端6连接平面螺旋天线1的两臂3,所述 非平衡端4连接输入输出端口8。

进一步地,所述金属背腔7为三级阶梯状结构,口径大于平面螺旋天线1。

进一步地,所述平面螺旋天线1由螺旋方程建立得到,位于介质板2的正面, 金属背腔为阶梯状结构,位于介质板2的背面。

本发明的有益效果为:

本发明平面螺旋天线采用新型的阶梯状背腔结构,实现了8-18GHz的宽带 范围内驻波比小于1.45,具有较好的抗干扰能力,改善了平面螺旋天线的性能。

附图说明

图1为本发明平面螺旋天线的结构示意图;

图2为本发明带背腔结构的平面螺旋天线中指数渐变巴伦5的结构示意图;

图3为本发明带背腔结构的平面螺旋天线的阶梯状背腔的剖视图;

图4为本发明带背腔结构的平面螺旋天线的仿真驻波比示意图;

图5为本发明带背腔结构的平面螺旋天线的增益仿真示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,详述本发明的技术方案。

如图1、2、3所示,实施例带背腔结构的平面螺旋天线包括输入输出端口8、 指数渐变巴伦5、平面螺旋天线1、介质板2和金属背腔7;所述平面螺旋天线1 由螺旋方程建立得到,通过印刷电路工艺印刷在介质板的正面,所述金属背腔7 为三级阶梯状结构,位于介质板2的背面。

进一步地,所述金属背腔7为三级阶梯状结构,由平衡端到非平衡端方向上 依次为第一阶梯、第二阶梯和第三阶梯;所述第一阶梯的长度为频率范围最大波 长的四分之一,第二阶梯的长度为中心频率对应波长的四分之一,第三阶梯的长 度为频率范围最小波长的四分之一,从巴伦平衡端到非平衡端方向阶梯状背腔的 横截面依次增大。

进一步地,所述平面螺旋天线1由螺旋方程建立得到,具体的参数设置满足:

(a)螺线的外径D取决于下限工作频率的波长λmax,其周长 C=πD≥1.25λmax

(b)螺线的内径2r0,即馈电点的间距,对天线阻抗匹配和上限工作频率都有 较大的影响,应结合馈电方式考虑,但2r0必须小于λmin/4;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610055964.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top