[发明专利]快速热处理腔室

权利要求书

1.一种腔室，包含：

腔室主体，所述腔室主体包含热绝缘衬里和流体管道，所述热绝缘衬里设置在所述腔室主体的内表面上，所述流体管道形成在所述腔室主体中以容纳温度控制流体；

基板支撑件，所述基板支撑件设置在所述腔室主体内，所述基板支撑件具有：

多个独立加热区域；以及

多个可独立控制的电阻式加热元件；以及

腔室盖，所述腔室盖设置在所述腔室主体上，所述腔室盖包含：

盖主体，所述盖主体具有圆形开口，所述圆形开口设置成穿过所述盖主体；

反射板，所述反射板定位在所述圆形开口内；以及

多个高温计，所述多个高温计设置成穿过形成在所述反射板中的开口，其中所述多个高温计中的每一个高温计对应于所述多个独立加热区域中的每一个区域。

2.如权利要求1所述的腔室，其中所述多个可独立控制的电阻式加热元件被调整以响应由所述多个高温计测量的温度。

3.如权利要求1所述的腔室，其中所述多个独立加热区域包含第一区域和第二区域，所述第一区域具有圆形形状并且设置在所述基板支撑件中央上，所述第二区域环绕所述第一区域。

4.如权利要求3所述的腔室，其中所述多个独立加热区域进一步包含第三区域、第四区域、第五区域和第六区域，并且其中所述第三区域、所述第四区域、所述第五区域和所述第六区域设置在所述第二区域的径向向外处。

5.如权利要求4所述的腔室，其中所述第三区域、所述第四区域、所述第五区域和所述第六区域每个延伸围绕所述基板支撑件的圆周90度。

6.一种腔室，包含：

腔室主体，所述腔室主体包含铝和设置在所述腔室主体的内表面上的热绝缘衬里；

基板支撑件，所述基板支撑件设置在所述腔室主体内，所述基板支撑件具有：

多个独立加热区域；以及

多个可独立控制的电阻式加热元件；以及

腔室盖，所述腔室盖设置在所述腔室主体上，所述腔室盖包含：

盖主体，所述盖主体包含铝，所述盖主体具有开口，所述开口设置成穿过所述盖主体；

反射板，所述反射板定位在所述开口内；以及

多个高温计，所述多个高温计设置成穿过形成在所述反射板中的开口，其中所述多个高温计中的每一个高温计对应于所述多个独立加热区域中的一个区域。

7.如权利要求6所述的腔室，其中所述多个独立加热区域包含第一区域和第二区域，所述第一区域具有圆形形状并且设置在所述基板支撑件中央上，所述第二区域环绕所述第一区域。

8.如权利要求7所述的腔室，其中所述多个独立加热区域进一步包含第三区域、第四区域、第五区域和第六区域，并且其中所述第三区域、所述第四区域、所述第五区域和所述第六区域设置在所述第二区域的径向向外处。

9.如权利要求8所述的腔室，其中所述多个可独立控制的电阻式加热元件被调整以响应由所述多个高温计测量的温度。

10.如权利要求6所述的腔室，进一步包含控制器，所述控制器耦接至每一个区域的电阻式加热元件并且耦接至所述多个高温计，所述控制器适于基于来自所述多个高温计每个的信号控制施加至每一个区域的所述电阻式加热元件的功率量。

11.如权利要求10所述的腔室，其中所述多个独立加热区域包含第一区域和第二区域，所述第一区域具有圆形形状并且设置在所述基板支撑件中央上，所述第二区域环绕所述第一区域。