[发明专利]一种力学敏感导电玻璃的制备方法

权利要求书

1.一种力学敏感导电玻璃的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

1)第一步离子交换处理工艺：将离子交换炉升温至430-480℃，将表面预处理过的原片 玻璃和第一步离子交换熔盐组分分开放置炉中，预热1-2.5h；待熔盐组分熔融后，将玻璃浸 没于熔盐组分中，保温25-48h；交换结束以后，以10-15℃的降温速率快速冷却，得到一次 离子交换玻璃；

其中，第一步离子交换熔盐组分按质量分数计如下：硝酸钾90-94％、氟化钾0.5-1％、 硅酸钾1.4-2.5％、磷酸钾1.1-2.3％、氧化铝0.2-0.8％、氢氧化钾0.1-0.5％，碳酸钾0.5-1％， 硅藻土1.7-2.5％；

2)第二步离子交换处理工艺：将离子交换炉升温至380-450℃，将一次离子交换玻璃和 第二步离子交换熔盐组分分开放置炉中，预热1-2.5h；待熔盐组分熔融后，将一次离子交换 玻璃浸没于熔盐组分中，保温15-60min；交换结束以后，快速升温50℃，保温2-5min，然 后以10-15℃的降温速率快速冷却，得到二次离子交换玻璃；

其中，第二步离子交换熔盐组分按质量分数计如下：氟化钾0.5-0.7％、硅酸钾1.0-1.6％、 磷酸钾1.3-2.1％、氧化铝0.2-0.8％、氢氧化钾0.1-0.5％，碳酸钾0.5-0.7％，硅藻土1.0-2.5％， 以上组分占全部熔盐组分的6.5％。其余93.5％为硝酸钾和硝酸钠成分，按照比例7：3的比 例进行配比，则硝酸钾占65.45％，硝酸钠占28.05％。

3)SiO₂薄膜的制备：使用射频溅射技术，选择SiO₂靶材，镀膜室气氛选择抽真空通氩 气和氧气，在二次离子交换玻璃表面制备40-100nm的SiO₂薄膜；

4)金属薄膜的制备：使用射频溅射技术，选择纯金为靶材，镀膜室气氛选择抽真空通氩 气，在SiO₂薄膜表面制备7-11nm的金属薄膜，得到目标产物。

2.如权利要求1所述力学敏感导电玻璃的制备方法，其特征在于所述第一步离子交换熔 盐组分和第二步离子交换熔盐组分使用前研磨混合，通过300-400目筛，筛余小于0.5-0.8wt％。

3.如权利要求1所述力学敏感导电玻璃的制备方法，其特征在于所述原片玻璃表面预处 理过程为：打磨，抛光，超声清洗，烘干。

4.如权利要求1所述力学敏感导电玻璃的制备方法，其特征在于制备SiO₂薄膜的射频 溅射速率为2-4nm/min，氩气压力为0.5-1Pa，溅射功率为180-220W，镀膜时间为20-25min。

5.如权利要求1所述力学敏感导电玻璃的制备方法，其特征在于制备金属薄膜的溅射速 率为10-20W，氩气压力0.1-0.2Pa，镀膜时间为100-130s，长度方向最远两点之间的电阻值 小于90-100Ω。