[发明专利]电容感测装置、指纹感测装置与电容感测装置制造方法

权利要求书

1.一种电容感测装置，其包含：

基板；

触控感测电极群，设置于该基板的表面上方；

指纹感测电极群，设置于该基板的表面上方；以及

电容感测集成电路，与该触控感测电极群以及该指纹感测电极群电连接，用以感测该触控感测电极群的电容变化而产生一触控指令，以及用以感测该指纹感测电极群的电容变化而产生一指纹图案。

2.如权利要求1所述的电容感测装置，其中该基板为一透明基板，该透明基板上具有一触控感测电极分布区域，该触控感测电极群分布于该触控感测电极分布区域中，该触控感测电极群包含一绝缘层以及两层导电结构。

3.如权利要求1所述的电容感测装置，其中该基板具有一指纹感测电极分布区域，该指纹感测电极群分布于该指纹感测电极分布区域中。

4.如权利要求1所述的电容感测装置，其中该指纹感测电极群包含一绝缘层，以及两层导电结构。

5.如权利要求4所述的电容感测装置，其中该两层导电结构都为金属网格层，或是都为透明电极层。

6.如权利要求4所述的电容感测装置，其中该两层导电结构分别为一金属网格层与一透明电极层。

7.如权利要求1所述的电容感测装置，其中该指纹感测电极群的电极分布密度大于该触控感测电极群的电极分布密度，且该指纹感测电极群与该触控感测电极群的位置重叠。

8.如权利要求1所述的电容感测装置，其中该基板具有凹槽，位于该指纹感测电极群位置的上方，该凹槽的侧壁上形成一个金属环，该金属环与该电容感测集成电路电连接，进而被提供一固定电压。

9.如权利要求1所述的电容感测装置，其中该触控感测电极群、该指纹感测电极群以及该电容感测集成电路都设置于该基板的同一表面的上方。

10.如权利要求1所述的电容感测装置，其中该指纹感测电极群包含：

第一导电结构，设置于该基板表面上方，包含有多条平行导线；

第二导电结构，设置于基板表面上方；

绝缘层，设置于该第一导电结构与该第二导电结构之间；以及

辅助导电结构，设置于与该第二导电结构同一侧的该绝缘层表面以及该等平行导线的间隔处上方。

11.如权利要求10所述的电容感测装置，其中还包含一金属网格线段，设置于该第一导电结构的表面上且与其电性接触。

12.如权利要求10所述的电容感测装置，其中该指纹感测电极群的该辅助导电结构与该第二导电结构为相同材料且相互电性接触。

13.如权利要求10所述的电容感测装置，其中该指纹感测电极群的该辅助导电结构与该第二导电结构为相同材料但未相互电性接触。

14.一种指纹感测装置，其包含：

基板；

第一导电结构，设置于该基板表面上方，其中包含有多条平行导线；

第二导电结构，设置于基板表面上方；

绝缘层，设置于该第一导电结构与该第二导电结构之间；以及

辅助导电结构，设置于与该第二导电结构同一侧的该绝缘层表面以及该等平行导线的间隔处上方。

15.如权利要求14所述的指纹感测装置，其中还包含一金属网格线段，设置于该第一导电结构的表面上且与其电性接触。

16.如权利要求14所述的指纹感测装置，其中该辅助导电结构与该第二导电结构为同一材料并相互电性接触。

17.如权利要求14所述的指纹感测装置，其中该辅助导电结构与该第二导电结构为同一材料但未相互电性接触。

18.一种电容感测装置制造方法，其包含下列步骤：

提供一基板；

利用同一制作工艺于该基板的表面上方完成一触控感测电极群以及一指纹感测电极群；以及

提供一电容感测集成电路，与该触控感测电极群以及该指纹感测电极群电连接，用以感测该触控感测电极群的电容变化而产生一触控指令，以及用以感测该指纹感测电极群的电容变化而产生一指纹图案。