[发明专利]一种侧入式背光模组及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201610008825.7 申请日: 2016-01-04
公开(公告)号: CN105652516A 公开(公告)日: 2016-06-08
发明(设计)人: 刘刚;施祖传;吴波;何书勇;李德君;方旭东 申请(专利权)人: 合肥京东方显示光源有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357;G02B6/00
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 230011 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 侧入式 背光 模组 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种侧入式背光模组,包括导光板和位于所述导光板的入光面一侧的蓝光光源,其 特征在于,所述导光板的出光面上设置有量子点层,且所述量子点层完全覆盖所述导光板 的出光面;所述量子点层包括用于发红光的量子点和用于发绿光的量子点。

2.根据权利要求1所述的侧入式背光模组,其特征在于,所述量子点层通过溅射的方式 形成。

3.根据权利要求1所述的侧入式背光模组,其特征在于,所述量子点层为单层结构,所 述单层结构包括相互混合的所述用于发红光的量子点和所述用于发绿光的量子点;或者, 所述量子点层为双层结构,所述双层结构中的一层为用于发红光的量子点层,所述双层结 构中的另一层为用于发绿光的量子点层。

4.根据权利要求1所述的侧入式背光模组,其特征在于,所述用于发红光的量子点和所 述用于发绿光的量子点均包括:半导体壳及设置于所述半导体壳内的发光核。

5.根据权利要求4所述的侧入式背光模组,其特征在于,所述用于发红光的量子点的发 光核的材质和所述用于发绿光的量子点的发光核的材质均为硒化镉,所述用于发红光的量 子点的发光核的直径为5纳米~5.5纳米,所述用于发绿光的量子点的发光核的直径为3纳 米~3.5纳米。

6.根据权利要求4所述的侧入式背光模组,其特征在于,所述用于发红光的量子点的半 导体壳的材质和所述用于发绿光的量子点的半导体壳的材质均为硫化锌。

7.根据权利要求1所述的侧入式背光模组,其特征在于,所述量子点层背向所述导光板 的一面上设置有保护层。

8.根据权利要求1所述的侧入式背光模组,其特征在于,所述导光板的曲翘高度与所述 导光板的厚度之间的比值小于等于0.5。

9.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1~8任一项所述的侧入式背光模组。

10.一种侧入式背光模组的制作方法,其特征在于,包括:

提供一导光板;

在所述导光板的出光面上形成量子点层,所述量子点层完全覆盖所述导光板的出光 面,且所述量子点层包括用于发红光的量子点和用于发绿光的量子点。

11.根据权利要求10所述的侧入式背光模组的制作方法,其特征在于,在导光板的出光 面上形成量子点层的步骤包括:通过溅射的方式在所述导光板的出光面上形成所述量子点 层。

12.根据权利要求11所述的侧入式背光模组的制作方法,其特征在于,通过溅射的方式 在导光板的出光面上形成量子点层的步骤包括:

提供一溅射腔室;

将所述导光板放置于所述溅射腔室内的阳极底座上,将量子点靶材放置于所述溅射腔 室内的阴极基座上,所述量子点靶材包括相互混合的用于发红光量子点和用于发绿光的量 子点;

在所述阳极底座和所述阴极基座之间施加电压以形成电场,充入所述溅射腔室中的惰 性气体在所述电场的作用下电离,电离生成的惰性气体离子在所述电场的作用下轰击所述 量子点靶材;

轰击出的用于发红光的量子点和用于发绿光的量子点沉积在所述导光板的出光面上, 形成所述量子点层。

13.根据权利要求11所述的侧入式背光模组的制作方法,其特征在于,通过溅射的方式 在导光板的出光面上形成量子点层的步骤包括:

提供一溅射腔室;

将所述导光板放置于所述溅射腔室内的阳极底座上,将量子点靶材放置于所述溅射腔 室内的阴极基座上,所述量子点靶材只包括用于发红光的量子点或者用于发绿光的量子 点;

在所述阳极底座和所述阴极基座之间施加电压以形成电场,充入所述溅射腔室中的惰 性气体在所述电场的作用下电离,电离生成的惰性气体离子在所述电场的作用下轰击所述 量子点靶材;

轰击出的用于发红光的量子点或者用于发绿光的量子点沉积在所述导光板的出光面 上,形成用于发红光的量子点层或者用于发绿光的量子点层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方显示光源有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥京东方显示光源有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610008825.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top