[发明专利]控制直线位移方向的方法在审

专利信息
申请号: 201610006425.2 申请日: 2016-01-04
公开(公告)号: CN105607654A 公开(公告)日: 2016-05-25
发明(设计)人: 苏渊红;王伟旭;谢朋翰 申请(专利权)人: 成都天衡电科科技有限公司
主分类号: G05D3/12 分类号: G05D3/12
代理公司: 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 代理人: 徐丰
地址: 610000 四川省成都市双流县西南航空*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 控制 直线 位移 方向 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及天线测量技术领域,特别是涉及天线增益方向图测量中 的一种控制直线位移方向的方法。

背景技术

在使用辅助天线直线位移测量天线增益方向图的测试过程中,辅助 天线需要在规划的直线轨迹上实现自动位移,以完成整个测试过程。而 实际应用中,由于参考点与被测天线距离较远,一般为几十米甚至上百 米,人工规划的辅助天线直线方向与被测天线的中心法线方向的垂直关 系不能得到很好的保证。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种针对人工规划的辅助天线 直线位移方向进行控制的方法,校正人工规划过程中存在的误差,从而 保证辅助天线直线位移方向与被测天线中心法线的垂直关系。

为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种控 制辅助天线直线位移方向的方法,包括:S1:将被测天线固定,在所述 被测天线的中心法线方向上选取参考点,经过所述参考点在与所述被测 天线的中心法线方向垂直的方向上规划辅助天线的直线位移方向,并在 所述直线位移方向上异于所述参考点的位置规划一测试点,测量所述被 测天线与所述参考点之间的距离;S2:当所述辅助天线沿所述直线位移 方向从所述参考点位移至所述一测试点后,测量所述辅助天线位移之后 与所述被测天线之间的距离,将辅助天线的中心法线调节至对准被测天 线的几何中心,记录调节过程中辅助天线的转动角度;S3:根据所述被 测天线与所述参考点之间的距离、所述辅助天线位移之后与所述被测天 线之间的距离以及所述转动角度,计算所述辅助天线位移之后与所述参 考点之间的距离;S4:根据所述被测天线与所述参考点之间的距离、所 述辅助天线位移之后与所述被测天线之间的距离以及所述辅助天线位 移之后与所述参考点之间的距离,计算所述辅助天线的位移方向与所述 直线位移方向之间的校正角度,并按照所述校正角度控制所述辅助天线 修正位移,使得所述辅助天线重新回到所述直线位移方向上。

优选地,所述辅助天线位移之后与所述参考点之间的距离的计算式 为:

BD=BO2+OD2-2·BO·OD·cosα]]>

其中,O表示被测天线的位置,B表示所述参考点,D’表示所述辅 助天线位移之后停靠点,α表示所述转动角度。

优选地,所述校正角度的计算式为:

优选地,所述被测天线与所述参考点之间的距离大于所述被测天线 的远场距离。

优选地,所述测量所述被测天线与所述参考点之间距离的步骤具体 为:在所述参考点处调节全站仪使其对准所述被测天线,通过所述全站 仪测量所述被测天线与所述参考点之间的距离。

优选地,所述测量所述辅助天线位移之后与所述被测天线之间距离 的步骤具体为:在所述参考点处调节全站仪使其对准所述被测天线后, 将所述全站仪设置为自动跟踪模式使得所述全站仪从所述参考点直线 位移至所述一测试点的过程中保持对准所述被测天线,通过所述全站仪 测量所述辅助天线位移之后与所述被测天线之间的距离。

优选地,所述将辅助天线的中心法线调节至对准所述被测天线的几 何中心的步骤具体为:利用全站仪对被测天线进行自动对准,并按照所 述全站仪对被测天线进行自动对准的过程将所述辅助天线的中心法线 调节至对准所述被测天线的几何中心;所述记录调节过程中所述辅助天 线相对于所述被测天线的转动角度的步骤具体为:当所述全站仪对被测 天线自动对准后,通过所述全站仪记录调节过程中所述辅助天线的转动 角度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都天衡电科科技有限公司,未经成都天衡电科科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610006425.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top