[发明专利]对用于排气后处理单元的还原剂的喷射进行控制的方法

权利要求书

1.一种对用于排气系统的排气后处理单元(204)的还原剂的喷射进行控制的方法，所述喷射是由内燃机的排气系统中的还原剂喷射器(205)进行的，所述方法包括：

–确定(S4)还原剂喷射欠缺量，以及至少部分地根据所述还原剂喷射欠缺量来控制所述还原剂喷射器(205)以喷射(S7、S701)补偿流量，

–其特征在于，根据依照至少第一要求的还原剂流量来确定所述还原剂喷射欠缺量，所述依照至少第一要求的还原剂流量高于(S3)还原剂流量的阈值，

–并且在于，所述方法进一步包括确定(S11、S1101)所述还原剂喷射欠缺量的已存在时间，其中，进行控制以喷射(S7、S701)所述补偿流量的步骤部分地取决于所确定的欠缺量已存在时间。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，还原剂流量的所述阈值是包括所述还原剂喷射器(205)的还原剂计量系统的最大流量。

3.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，控制所述还原剂喷射器(205)，以便除了依照第二要求的还原剂流量的随后喷射之外还喷射(S7、S701)所述补偿流量。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述依照第二要求的还原剂流量低于(S3)还原剂流量的所述阈值。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，确定(S4)所述还原剂喷射欠缺量的步骤包括至少部分地基于所述依照第一要求的还原剂流量相对于还原剂流量的所述阈值的超额量来确定所述还原剂喷射欠缺量。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中，确定所述还原剂喷射欠缺量的步骤包括确定是否增加(S4)所述还原剂喷射欠缺量。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中，确定(S4)所述还原剂喷射欠缺量的步骤包括：如果所述依照第一要求的还原剂流量高于还原剂流量的所述阈值，则增加(S4)所述还原剂喷射欠缺量。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其中，进行控制以喷射(S7、S701)所述补偿流量的步骤取决于是否喷射所述补偿流量的决定(S6)。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述补偿流量部分地取决于(S10、S1001)所述还原剂喷射欠缺量的大小。

10.根据权利要求1或2所述的方法，包括确定(S1)所述内燃机或排气系统的运行状况，其中，进行控制以喷射(S7、S701)所述补偿流量的步骤部分地取决于所确定的运行状况。

11.根据权利要求1或2所述的方法，包括确定(S1)所述排气后处理单元中的还原剂缓冲器的状况，其中，进行控制以喷射(S7、S701)所述补偿流量的步骤部分地取决于所确定的还原剂缓冲器的状况。

12.根据权利要求1或2所述的方法，包括确定(S1)所述排气系统内的排气中的氮氧化物的量，其中，进行控制以喷射(S7、S701)所述补偿流量的步骤部分地取决于所确定的氮氧化物的量。

13.根据权利要求1或2所述的方法，包括至少部分地基于所述补偿流量来确定(S12、S1201)所述还原剂喷射欠缺量的减少。

14.根据权利要求1或2所述的方法，包括至少部分地基于所述还原剂喷射欠缺量的大小来确定(S12、S1201)所述还原剂喷射欠缺量的减少。

15.根据权利要求1或2所述的方法，包括确定(S1、S1101)所述内燃机或排气系统的运行状况，且至少部分地基于所确定的运行状况来确定(S12、S1202)所述还原剂喷射欠缺量的减少。