[发明专利]保护膜形成用膜有效

专利信息
申请号: 201580077332.2 申请日: 2015-11-04
公开(公告)号: CN107428963B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 稻男洋一;佐伯尚哉 申请(专利权)人: 琳得科株式会社
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08G59/62;H01L21/301;H01L21/60
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王利波
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 保护膜 形成
【权利要求书】:

1.一种保护膜形成用膜,其用于形成保护半导体芯片的保护膜,其中,

固化后的膜表面的肖氏硬度D为55以上,而且固化后的在23℃下的杨氏模量为1.0×109Pa以上,

所述保护膜形成用膜含有丙烯酸类聚合物(A)及环氧类固化性成分(B),且所述环氧类固化性成分(B)含有具有环氧基的稠环芳香族化合物(b1)和具有环氧基的稠环芳香族化合物(b1)以外的其它环氧类化合物(b2),

所述具有环氧基的稠环芳香族化合物(b1)为下述通式(II)所示的化合物,

在通式(II)中,CR1及CR2表示稠合多环芳香族烃基,R2表示二价的烃基,R3表示碳原子数1~10的烷基或缩水甘油醚基,n表示0~3的整数,p为0~10的整数,在p为0时R2表示单键,q表示1~3的整数。

2.根据权利要求1所述的保护膜形成用膜,其中,构成丙烯酸类聚合物(A)的单体含有烷基碳原子数为1~8的(甲基)丙烯酸烷基酯。

3.根据权利要求1所述的保护膜形成用膜,其中,构成丙烯酸类聚合物(A)的单体含有(甲基)丙烯酸甲酯。

4.根据权利要求2所述的保护膜形成用膜,其中,构成丙烯酸类聚合物(A)的单体含有(甲基)丙烯酸甲酯。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的保护膜形成用膜,其中,构成丙烯酸类聚合物(A)的单体含有丙烯酸甲酯。

6.根据权利要求1~4中任一项所述的保护膜形成用膜,其含有填充材料(C)。

7.根据权利要求5所述的保护膜形成用膜,其含有填充材料(C)。

8.一种保护膜形成用复合片,其具备:支撑片、和设置于所述支撑片上的权利要求1~7中任一项所述的保护膜形成用膜。

9.一种带保护膜的芯片,其具备:半导体芯片、和设置于所述半导体芯片上的保护膜,所述保护膜是将权利要求1~7中任一项所述的保护膜形成用膜固化而成的。

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