[发明专利]测量非对称性的方法、检查设备、光刻系统及器件制造方法

权利要求书

1.一种测量通过光刻工艺形成在衬底上的周期性结构的非对称性的方法，所述方法包括以下步骤：

第一测量步骤，所述第一测量步骤包括在利用辐射对所述结构进行照射时，形成并且检测所述周期性结构的第一图像，所述第一图像是使用经衍射的辐射的第一选择部分形成的；

第二测量步骤，所述第二测量步骤包括在利用辐射对所述结构进行照射时，形成并且检测所述周期性结构的第二图像，所述第二图像是使用所述经衍射的辐射的第二选择部分形成的，所述第二选择部分在所述周期性结构的衍射光谱中与所述第一部分对称地相对；以及

基于从检测到的所述第一图像和所述第二图像导出的强度值来计算所述周期性结构中的非对称性测量，

其中，在计算所述非对称性测量的步骤中，包括用于减小在所述第一测量步骤和所述第二测量步骤中产生的杂散辐射的影响的校正。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述校正包括以下形式的计算：

其中，A’为经校正的非对称性值，A为未经校正的非对称性值，并且δ和G为校正值。

3.根据权利要求1或者2所述的方法，进一步包括：对与所述第一测量步骤和所述第二测量步骤相同的衬底和/或类似的衬底执行的多个校准测量步骤，所述校正是基于所述校准测量步骤的结果的。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述校准测量包括对至少第一周期性结构和第二周期性结构的测量，所述第一周期性结构和所述第二周期性结构是利用非对称性相关参数的已知偏差形成的。

5.根据权利要求2或者3所述的方法，其中，所述校准测量至少包括：

在通过第一光学路径对所述衬底进行照射时，利用相对于测量光学系统处于第一定向的所述衬底进行的第一校准测量；

在通过所述第一光学路径对所述衬底进行照射时，利用相对于所述测量光学系统处于第二定向的所述衬底进行的第二校准测量；

在通过第二光学路径对所述衬底进行照射时，利用处于所述第一定向的所述衬底进行的第三校准测量；以及

在通过所述第二光学路径对所述衬底进行照射时，利用处于所述第二定向的所述衬底进行的第四校准测量。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，对至少第一周期性结构和第二周期性结构中的每一个进行所述第一校准测量、所述第二校准测量、所述第三校准测量和所述第四校准测量，所述第一周期性结构和所述第二周期性结构是利用非对称性相关参数的已知偏差形成的。

7.根据权利要求4或6所述的方法，其中，并行地对所述第一周期性结构和所述第二周期性结构进行校准测量，不同周期性结构的图像在测量光学系统的图像场中是可分离的。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，利用相对于测量光学系统处于第一定向的所述衬底执行所述第一测量步骤，并且利用处于第二定向的所述衬底执行所述第二测量步骤。

9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，利用相对于测量光学系统处于第一定向的所述衬底执行所述第一测量步骤和所述第二测量步骤，所述第一测量步骤使用所述测量光学系统内的第一光学路径，并且所述第二测量步骤使用第二光学路径。

10.根据权利要求4或6所述的方法，其中，并行地对多个周期性结构执行所述第一测量步骤和所述第二测量步骤，不同周期性结构的图像在测量光学系统的图像场中是可分离的。

11.根据权利要求10所述的方法，进一步包括：基于由针对多个周期性结构由所述方法确定的非对称性来计算所述光刻工艺的性能参数。