[发明专利]EUV投射光刻的照明光学单元

说明书

一种EUV投射光刻的照明光学单元(7)，用于以照明光(3)照明物场(8)。在物体位移方向(y)上可位移的待成像物体(19)可布置于物场(8)中。传输光学单元(14)通过照明通道，以叠加于彼此上的方式将场分面反射镜(5)的场分面成像至物场(8)中，所述照明通道各均已分配有所述场分面之一和光瞳分面反射镜(10)的一个光瞳分面。该叠加光学单元(14)具有布置于该光瞳分面反射镜(10)下游的至少两个用于掠入射的反射镜(12，13)。用于掠入射的反射镜(12，13)在物场(8)中生成由照明通道构成的照明光整体束(3G)的照明角带宽，该带宽对于平行于物体位移方向(y)的入射平面(yz)而言小于对于与其垂直的平面(xz)。所呈现的照明光学单元是这样的：通过其，投射光学单元可适配于照明光的EUV光源的配置。

相关申请的交叉引用

本申请要求德国专利申请DE 10 2014 223 452.2和DE 10 2014 223 453.0 的优先权，通过引用将上述申请的内容并入本文。

技术领域

本发明关于EUV投射微光刻的照明光学单元。再者，本发明关于一种照明系统，包含此类照明光学单元和投射光学单元；一种投射曝光装置，包含此类照明系统；一种使用此类投射曝光装置制造微结构或纳米结构部件的方法；以及通过该方法制造的微结构或纳米结构部件。

背景技术

上述类型的以照明光照明物场的照明光学单元，从US 6,507,440B1、 US 6,438,199 B1、US 2011/0318696 A1、US 2011/0001947 A1和WO 2012/034995 A2已知，其中待成像物体可布置在物场中。

发明内容

本发明的目的为开发上述类型的照明光学单元，使得通过其，投射光学单元可适配于照明光的EUV光源的配置。

根据本发明，此目的由一种EUV投射光刻的照明光学单元实现。所述照明光学单元用于以照明光照明物场，其中待成像物体可布置于该物场中，该物体在投射曝光期间通过物体夹持器在物体位移方向上是可位移的。所述照明光学单元包含场分面反射镜，其包含多个场分面，所述多个场分面分别由至少一个单独反射镜构建，以及包含光瞳分面反射镜，其包含多个光瞳分面，为传输光学单元的一部分，所述传输光学单元通过照明通道，以叠加于彼此上的方式将所述场分面成像在该物场中，所述照明通道各均已分配有所述场分面之一和所述光瞳分面之一，其中该传输光学单元具有至少两个用于掠入射的反射镜，其在该照明光的射束路径中布置于该光瞳分面反射镜的下游，以及在该物场中产生由所述照明通道构成的照明光整体束的照明角带宽，该带宽对于照明光在物场上的平行于该物体位移方向的入射平面而言小于对于与物体位移方向垂直的平面。