[发明专利]EUV投射光刻的照明光学单元

权利要求书

1.一种EUV投射光刻的照明光学单元(6；50；51；52；53)，用于以照明光(3)照明物场(4)，其中待成像物体(10)可布置于该物场(4)中，该物体在投射曝光期间通过物体夹持器(10a)在物体位移方向(y)上是可位移的，

-包含场分面反射镜(FF)，其包含多个场分面，所述多个场分面分别由至少一个单独反射镜构建，

-包含光瞳分面反射镜(PF)，其包含多个光瞳分面，为传输光学单元(46)的一部分，所述传输光学单元通过照明通道，以叠加于彼此上的方式将所述场分面成像在该物场(4)中，所述照明通道各均已分配有所述场分面之一和所述光瞳分面之一，

-其中该传输光学单元(46)具有至少两个用于掠入射的反射镜(22，23)，其在该照明光(3)的射束路径中布置于该光瞳分面反射镜(10)的下游，以及

-在该物场(4)中产生由所述照明通道构成的照明光整体束(3_G)的照明角带宽，该带宽对于照明光(3)在物场(4)上的平行于该物体位移方向(y)的入射平面(yz)而言小于对于与物体位移方向垂直的平面(xz)。

2.如权利要求1的照明光学单元，其特征在于两个用于掠入射的反射镜(22，23)布置为使得其对所述照明光(3)的偏转效应相加。

3.如权利要求1或2的照明光学单元，其特征在于在该光瞳分面反射镜(PF)上的光瞳分面的全体具有边缘轮廓(49)，其纵横比(x/y)介于

-该边缘轮廓(49)垂直于该物体位移方向(y)的范围(x)与

-该边缘轮廓(49)平行于该物体位移方向(y)的范围(y)

之间，其小于该照明光学单元(6；50；51；52；53)的照明光瞳的尺寸之间的纵横比(sigmax/sigmay)，所述尺寸分配给边缘轮廓垂直(x)和平行(y)于该物体位移方向的那些范围。

4.如权利要求1或2的照明光学单元，其特征在于所述场分面由多个微反射镜构建。

5.如权利要求1或2的照明光学单元，其特征在于所述场分面具有大于该物场(4)的x/y纵横比的x/y纵横比。

6.如权利要求1或2的照明光学单元，

-包含成像光学子单元(16；26；33；35；37；39；41；42；43)，其将位于该成像光(3)的射束路径中在该物场(4)上游的布置平面(17)成像于可布置于其下游的投射光学单元(7)的光瞳平面(18)中，

-其中该成像光学子单元(16；26；33；35；37；39；41；42；43)配置为使得其仅在该物场(4)上游的射束路径中造成该成像光(3)的掠偏转且具有GI反射镜(23)作为该物场(4)上游的射束路径中的最后反射镜。

7.一种照明系统，包含如权利要求1至6中任一项的照明光学单元(7；26；27；28；29)且包含将该物场(8)成像于像场(17)中的投射光学单元(16)。

8.如权利要求7的照明系统，其特征在于该投射光学单元(16)为在两个不同平面中具有不同缩小成像比例的变形光学单元。

9.如权利要求7或8的照明系统，其特征在于EUV光源(2)。

10.一种投射曝光装置(1)，

-包含如权利要求7至9中任一项的照明系统，

-包含夹持该物体(19)的物体夹持器(22)，该物体夹持器连接到在该物体位移方向(y)上位移该物体(19)的物体位移驱动器(24)，

-包含夹持晶片(21)的晶片夹持器(23)，该晶片夹持器连接到晶片位移驱动器(25)，从而以与该物体位移驱动器(24)同步的方式位移该晶片(21)。

11.一种制造微结构部件的方法，包含下列步骤：

-提供掩模母版(19)，

-提供具有对该照明光(3)敏感的涂层的晶片(21)，

-借助于如权利要求10的投射曝光装置将该掩模母版(19)的至少一部分投射在该晶片(21)上，

-显影由照明光(3)曝光的晶片(21)上的光敏层。