[发明专利]剥离层及其制造方法

权利要求书

1.一种剥离层，由阳离子性聚合物电解质或有机硅烷及带有负电荷的层状硅酸盐纳米板状粒子形成，

其特征在于，上述剥离层包括下部层和上部层，上述下部层由阳离子性聚合物电解质或有机硅烷形成，上述上部层由带有负电荷的层状硅酸盐纳米板状粒子形成。

2.根据权利要求1所述的剥离层，其特征在于，上述下部层和上部层反复层叠。

3.根据权利要求2所述的剥离层，其特征在于，上述下部层的数量和上部层的数量相同。

4.根据权利要求1所述的剥离层，其特征在于，阳离子性聚合物电解质的阳离子性聚合物选自由聚二烯丙基二甲基氯化铵(PDDA，poly(diallyldimethylammonium chloride))、聚乙烯亚胺(PEI，poly(ethylene imine))、聚酰胺酸(PAA，poly(amic acid))、聚苯乙烯磺酸盐(PSS，poly(styrene sulfonate))、聚烯丙基胺(PAA，poly(allyl amine))、壳聚糖(CS，Chitosan)、聚N-异丙基丙烯酰胺(PNIPAM，poly(N-isopropyl acrylamide))、聚乙烯基硫酸盐(PVS，poly(vinyl sulfate))、聚烯丙基胺盐酸盐(PAH，poly(allylaminehydrochloride))及聚甲基丙烯酸(PMA，poly(methacrylic acid))组成的组中。

5.根据权利要求1所述的剥离层，其特征在于，层状硅酸盐选自粘土矿物组中。

6.根据权利要求5所述的剥离层，其特征在于，上述层状硅酸盐选自由高岭石组(kaolinite group)、高岭石-蛇纹石组(kaolinite-serpentine group)、伊利石组(illitegroup)、蒙脱石组(smectite group)及蛭石组(vermiculite group)组成的组中。

7.根据权利要求6所述的剥离层，其特征在于，层状硅酸盐选自由叶蜡石(pyrophyllite)、胶岭石(montmorillonite)、贝得石(beidellite)、绿脱石(nontronite)、滑石(talc)、皂石(saponite)、锂蒙脱石(hectorite)、锌蒙脱石(sauconite)、高岭石(kaolinite)、地开石(dickite)、珍珠陶土(nacrite)、蛭石及埃洛石(halloysite)组成的组中。

8.根据权利要求7所述的剥离层，其特征在于，层状硅酸盐为胶岭石。

9.根据权利要求1所述的剥离层，其特征在于，层状硅酸盐为合成锂皂石(laponite)。

10.根据权利要求1所述的剥离层，其特征在于，层状硅酸盐选自云母组中。

11.根据权利要求10所述的剥离层，其特征在于，层状硅酸盐选自由绢云母(sericite)、白云母(muscovite)、黑云母(biotite)及金云母(phlogopite)组成的组中。

12.根据权利要求1所述的剥离层，其特征在于，层状硅酸盐由白云母和胶岭石的混合物形成。

13.根据权利要求1所述的剥离层，其特征在于，上述剥离层用于柔性显示器制造工序。

14.一种剥离层的制造方法，其特征在于，包括：

步骤a)，使基板表面带有负电荷，之后；

步骤b)，涂敷阳离子性聚合物电解质或经过硅烷化工序；以及

步骤c)，使层状硅酸盐带有负电荷并涂敷带有负电荷的该层状硅酸盐而形成剥离层。