[发明专利]具有两个仲胺的2,2‑二氨基联芳烃和其通过电化学偶联的制备

说明书

本发明涉及新颖的2,2'-二氨基联芳烃，以及用于制备2,2'-二氨基联芳烃的电化学方法。

受不同保护的苯胺的直接电化学C,C-交叉偶联至今未知。通过铜催化的C,C-偶联来制备非对称2,2'-二氨基联芳烃虽然是可行的，但这些或者未受保护(M. Smrcina，S. Vyskocil，B. Maca，M. Polasek，T. A. Claxton，A. P. Abbott，P. Kocovsky，J. Org. Chem. 1994，59，2156–2163.)或者两个氨基带有相同的保护基团(J.-F. Cui，H. Huang，H. Wong，Synlett 2011，7，1018–1022.和W. Kalk，H.-S. Bien，K.-H. Schündehütte，Justus Liebigs Ann. Chem. 1977，329–337.)。

同样地，仅已知通过类乌尔曼(Ullmann)反应操作来合成具有相同保护基团的受对称保护的2,2'-二氨基联芳烃(W. Kalk，H.-S. Bien，K.-H. Schündehütte，Justus Liebigs Ann. Chem. 1977，329–337.和S. Zhang，D. Zhang，L. S. Liebeskind，J. Org. Chem. 1997，62，2312–2313.)。关于这，对待偶联物质的所使用的保护基团和取代模式的选择受极大限制。

非对称2,2'-二氨基联芳烃的合成还可能经由[3,3]-σ迁移重排，但其具有差的选择性。关于这，仅通过受极大限制地选择保护基团来获得单侧保护的2,2'-二氨基联芳烃。

参见：

- Y.-K. Lim，J.-W. Jung，H. Lee，C.-G. Cho，J. Org. Chem. 2004，69，5778–5781；

- S.-E. Suh，I.-K. Park，B.-Y. Lim，C.-G. Cho，Eur. J. Org. Chem. 2011，3，455–457；

- B.-Y. Lim，M.-K. Choi，C.-G. Cho，Tetrahedron Letters 2011，52，6015–6017。

为制备受不同双保护的2,2'-二氨基萘，首先使未保护的2,2'-二氨基联芳烃受单一保护，以在第二合成步骤中引入第二保护基团(M. Shi，W.-L. Duan，G.-B. Rong，Chirality 2004，16，642–651.)。在这种情况下，保护因此在偶联之后才进行。这导致，仅容忍保护基团的特定组合，因为仅在第一基团稳定的这类条件下才可引入第二基团。因此，仅容忍少数几种组合。此外，该方法的特征在于缺乏的选择性、合成步骤之间的纯化过程和小的产量，这使得该已知方法没有竞争能力。此外，在一些情况下，保护、脱保护和再保护的大量合成步骤为实现期望的靶化合物所需。

本发明的目的是提供相比于文献中已知2,2'-二氨基联芳烃而言具有新颖结构的2,2'-二氨基联芳烃。另外，应开发可以良好产量制备新颖2,2'-二氨基联芳烃的方法。特别地，所述方法有利地在现有技术已知的制备方法中显得突出。

所述目的由根据权利要求1的化合物来实现。

化合物具有通用结构(I)至(III)中的一者：

(I)

(II)

(III)

其中

R¹、R²、R³、R⁴、R¹'、R²'、R³'、R⁴'选自：