[发明专利]投射光刻的照明光学单元的分面反射镜有效
| 申请号： | 201580045812.0 | 申请日： | 2015-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN106605175B | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | M.德冈瑟;M.帕特拉 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军;王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 投射 光刻 照明 光学 单元 反射 | ||
1.一种投射光刻的照明光学单元的分面反射镜(11; 14; 34)，
- 包含多个使用分面(12)，其每个反射照明光部分光束(9i)；以及
- 包含至少一个变化子单元(16; 20; 28)，其具有共同布置于分面承载件(22)上的多个变化分面(12, 12'; 12i, 12i'; 13)，所述变化分面能够替代地位于所述使用分面(12;12, 13)中精确的一个使用分面的使用位置处，
其中在可通过变化子单元改变的使用分面与不属于此变化子单元的邻近使用分面间的距离的方向上，所述邻近使用分面能够具有至少为此距离5倍的范围。
2.如权利要求1所述的分面反射镜，其特征在于，所述变化子单元(20; 28)以可枢转的方式实施，其中所述变化分面(12, 12')布置在围绕枢转轴(21)的圆周方向上，并且形成分面承载件的圆周壁区段。
3.如权利要求1所述的分面反射镜，其特征在于，所述变化子单元包含具有旋转对称壁区段(23, 24)的分面承载件(22)，邻近的变化子单元(20; 28)能够通过所述旋转对称壁区段而彼此抵靠。
4.如权利要求2所述的分面反射镜，其特征在于，所述可枢转的变化子单元(28)布置为二维阵列。
5.一种投射光刻的照明光学单元，包含如权利要求1至4中任一项所述的分面反射镜(11; 14; 34)。
6.如权利要求5所述的照明光学单元，包含布置在与光瞳平面相距一距离的转移分面反射镜(11)和镜像分面反射镜(14)。
7.如权利要求5所述的照明光学单元，包含场分面反射镜(34)和光瞳分面反射镜(35)。
8.一种投射光刻的光学系统，包含如权利要求5至7中任一项所述的照明光学单元，用于照明物场(3)，其中要照明的物体能够布置于所述物场(3)中；以及包含投射光学单元(6)，用于将所述物场(3)成像至像场(7)中。
9.一种照明系统，包含如权利要求5至7中任一项所述的照明光学单元且包含EUV光源(2)。
10.一种投射曝光装置，包含如权利要求8所述的光学系统和EUV光源(2)。
11.一种制造结构化组件的方法，包含以下步骤：
- 提供如权利要求10所述的投射曝光装置(4)；
- 提供掩模母版(5)；
- 将布置在所述物场(3)中的所述掩模母版(5)的表面投射至晶片(8)的光敏层上。
12.一种组件，由如权利要求11所述的方法制造。
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