[发明专利]使用在线纳米探测的贯穿工艺流程的芯片内和芯片间的电分析和过程控制有效
申请号: | 201580044320.X | 申请日: | 2015-06-25 |
公开(公告)号: | CN107004554B | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | V·乌克兰采夫;I·尼夫;R·本蔡恩 | 申请(专利权)人: | FEI埃法有限公司 |
主分类号: | H01J37/20 | 分类号: | H01J37/20;H01L21/66;G01R1/06;G01R31/307;G01R31/28 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈松涛;王英 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 在线 纳米 探测 贯穿 工艺流程 芯片 分析 过程 控制 | ||
1.一种用于在半导体晶圆上执行在线纳米探测的系统,包括:
真空腔室,其具有底板、侧壁和顶板;
导航台,其具有行进部分和静止部分以及轴承,在启用所述轴承时实现了所述行进部分与所述静止部分之间的相对运动;
晶圆支架,其附接到所述导航台的所述行进部分;
SEM柱,其附接到所述顶板;以及
多个纳米探针定位器,其附接到所述顶板,每个纳米探针定位器具有被配置为物理接触所述晶圆上所选择的点的纳米探针,所述纳米探针定位器中的每个纳米探针定位器附接到与所述SEM柱接近的所述顶板,以便于使所述纳米探针定位器能够将其纳米探针插入到所述SEM柱的视场中。
2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述多个纳米探针定位器被对称地布置在所述柱的光轴周围。
3.根据权利要求1所述的系统,其中,所述多个纳米探针定位器被布置为具有围绕所述柱的光轴的轴向对称。
4.根据权利要求1所述的系统,其中,所述多个纳米探针定位器被环形地布置在所述柱的光轴周围。
5.根据权利要求1所述的系统,其中,所述多个纳米探针定位器包括具有硬化尖端的至少一个纳米探针,并且所述纳米探针定位器的其余部分具有带导电尖端的纳米探针。
6.根据权利要求5所述的系统,其中,所述硬化尖端包括金刚石。
7.根据权利要求1所述的系统,其中,所述多个纳米探针定位器中的每个纳米探针定位器包括力传感器,所述力传感器用于测量由所述纳米探针施加到所述晶圆的接触力。
8.根据权利要求1所述的系统,还包括多个漂移传感器,所述多个漂移传感器用于在探测期间实时检测纳米探针相对于晶圆调准装置的漂移。
9.根据权利要求8所述的系统,还包括反馈电路,所述反馈电路向所述纳米探针定位器中的每个纳米探针定位器提供信号,以在检测到对准漂移时校正所述纳米探针的定位。
10.根据权利要求9所述的系统,其中,所述漂移传感器中的每个漂移传感器包括光学象限传感器。
11.根据权利要求8所述的系统,其中,所述多个漂移传感器产生指示所述晶圆与所述柱之间的漂移的数据。
12.根据权利要求11所述的系统,其中,所述多个漂移传感器还产生指示所述柱与所述多个探针中的每个探针之间的漂移的数据。
13.根据权利要求1所述的系统,还包括光学显微镜。
14.根据权利要求1所述的系统,其中,所述静止部分包括所述顶板的部分,并且所述轴承包括位于所述顶板的部分与所述行进部分之间的空气轴承,以使得所述导航台悬挂在所述顶板上。
15.根据权利要求1所述的系统,还包括控制器,所述控制器能够操作用于从所述SEM柱接收信号并且产生用于所述纳米探针定位器的驱动信号,以将所述纳米探针移动到所述半导体晶圆上的所指定的目标。
16.根据权利要求15所述的系统,其中,所述控制器包括针对CAD设计数据的输入端和针对网表数据的输入端。
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