[发明专利]低反射涂层、带低反射涂层的基板及光电转换装置

权利要求书

1.一种带低反射涂层的基板，其具有玻璃板和形成在所述玻璃板的主表面的至少一方的低反射涂层，

所述低反射涂层是实心的球状且平均粒径为80～150nm的二氧化硅微粒被以二氧化硅为主成分的粘合剂固定而成的多孔膜，

所述粘合剂还包含铝化合物，

所述低反射涂层中的成分的含有率以质量％表示为：

所述二氧化硅微粒 55～70％、

所述粘合剂中的二氧化硅 25～40％、

将所述铝化合物换算成Al₂O₃ 2～7％，

所述低反射涂层的膜厚为80～800nm，

通过在玻璃板上实施所述低反射涂层而得的透射率增量为2.5％以上，

在所述玻璃板中，形成有所述低反射涂层的所述主表面在未形成该低反射涂层的状态下具有5.1％以上的平均反射率、即、在波长区域380～850nm下的平均反射率，

在所述玻璃板中，在形成有所述低反射涂层的所述主表面的最外表面的氧化锡的浓度为3.5～24质量％，

其中，透射率增量与在波长区域380～850nm下的平均透射率有关，且为所述带低反射涂层的基板的平均透射率相对于实施所述低反射涂层前的所述玻璃板的平均透射率的增量。

2.根据权利要求1所述的带低反射涂层的基板，其中，所述二氧化硅微粒的平均粒径超过100nm且为150nm以下。

3.根据权利要求1所述的带低反射涂层的基板，其中，所述粘合剂中的二氧化硅来自在用于形成所述低反射涂层的涂布液中所添加的水解性硅化合物或水解性硅化合物的水解物，

该水解性硅化合物包含下述式(I)所示的化合物，

SiX₄ (I)

其中，X为选自烷氧基、乙酰氧基、烯基氧基、氨基及卤素原子中的至少1种。

4.根据权利要求3所述的带低反射涂层的基板，其中，所述水解性硅化合物为四烷氧基硅烷。

5.根据权利要求1所述的带低反射涂层的基板，其中，所述铝化合物来自在用于形成所述低反射涂层的涂布液中所添加的卤化铝。

6.根据权利要求5所述的带低反射涂层的基板，其中，所述卤化铝为氯化铝。

7.根据权利要求1所述的带低反射涂层的基板，其中，在所述带低反射涂层的基板中，关于在波长区域380～850nm下的平均透射率，

实施JIS C8917：2005附录4中规定的盐水喷雾试验之前的平均透射率相对于实施该盐水喷雾试验之后的平均透射率之差的绝对值为0.15％以下。

8.根据权利要求1所述的带低反射涂层的基板，其中，在将用于形成所述低反射涂层的涂布液涂布于所述玻璃板后的加热工序中，

所述玻璃板的表面所经历的最高温度为350℃以下，

所述玻璃板的表面处于200℃以上的温度的时间为5分钟以下。

9.根据权利要求1所述的带低反射涂层的基板，其中，在将用于形成所述低反射涂层的涂布液涂布于所述玻璃板后的加热工序中，

所述玻璃板的表面所经历的最高温度为250℃以下，

所述玻璃板的表面处于100℃以上的温度的时间为2分钟以下。

10.根据权利要求1所述的带低反射涂层的基板，其中，所述玻璃板为利用浮法制造的浮法玻璃板，

所述低反射涂层形成在所述玻璃板的主表面中利用浮法制造时与浮抛窖接触的主表面上。

11.根据权利要求1所述的带低反射涂层的基板，其中，在所述玻璃板的一个主表面形成有所述低反射涂层，

在所述玻璃板的与形成所述低反射涂层的所述主表面相反一侧的主表面形成有透明导电膜。