[发明专利]使用高分辨率全裸片图像数据进行检验

权利要求书

1.一种用于相对于所存储高分辨率裸片图像确定检验数据的位置的计算机实施方法，其包括：

使由检验系统针对晶片上的对准位点获取的数据与关于预定对准位点的数据对准，其中所述预定对准位点在所述晶片的所存储高分辨率裸片图像的裸片图像空间中具有预定位置；

基于所述预定对准位点在所述裸片图像空间中的所述预定位置而确定所述对准位点在所述裸片图像空间中的位置；及

基于所述对准位点在所述裸片图像空间中的所述位置而确定由所述检验系统针对所述晶片获取的检验数据在所述裸片图像空间中的位置，其中对准所述数据、确定所述对准位点的所述位置及确定所述检验数据的所述位置是由计算机系统执行。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述所存储高分辨率裸片图像是所述裸片整体的所存储高分辨率图像。

3.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：通过用基于电子束的成像系统扫描所述晶片或另一晶片上的裸片来获取所述晶片的所述高分辨率裸片图像，及将所述所获取高分辨率裸片图像存储于存储媒体中。

4.根据权利要求1所述的方法，其中关于所述晶片的设计数据不可供在所述方法中使用。

5.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：基于所述检验数据而检测所述晶片上的缺陷，其中在所述检测之前并不知晓所述缺陷的位置。

6.根据权利要求1所述的方法，其中以子像素准确度确定所述检验数据的所述位置。

7.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：基于所述所存储高分辨率裸片图像而识别待用于检验所述晶片的一个或多个关注区域。

8.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：基于所述检验数据在所述裸片图像空间中的所述位置而识别对应于所述晶片上的关注区域的所述检验数据。

9.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：基于所述对准而确定关于所述晶片上的所述对准位点的所述数据与关于所述预定对准位点的所述数据之间的偏移，其中使用所述偏移及所述对准位点在所述裸片图像空间中的所述位置来执行确定所述检验数据的所述位置。

10.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：从所述所存储高分辨率裸片图像产生上下文映射图，其中所述上下文映射图包括关于跨越所述裸片图像空间的所述所存储高分辨率裸片图像的一个或多个属性的值。

11.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：获取关于所述晶片上的一个位置处的热点的信息，基于关于所述热点的所述信息而识别所述晶片上的所述热点的其它位置，及基于所述一个位置及所述其它位置处的所述热点而产生所述晶片的关注区域。

12.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：基于所述检验数据而检测所述晶片上的缺陷，及基于对应于所述缺陷中的至少一者的所述检验数据在所述裸片图像空间中的所述位置及上下文映射图而对所述至少一个缺陷进行分类，其中所述上下文映射图包括关于跨越所述裸片图像空间的所述所存储高分辨率裸片图像的一个或多个属性的值。

13.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：从所述所存储高分辨率裸片图像产生上下文映射图，其中所述上下文映射图包括关于跨越所述裸片图像空间的所述所存储高分辨率裸片图像的一个或多个属性的值及关于所述值的上下文代码；基于所述检验数据而检测所述晶片上的缺陷；及基于对应于所述缺陷中的至少一者的所述检验数据在所述裸片图像空间中的所述位置及所述上下文映射图而将所述上下文代码中的一者指派到所述至少一个缺陷。

14.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：基于关于待由所述检验系统用于检验所述晶片的一个或多个光学模式及像素大小的信息而选择所述预定对准位点。

15.根据权利要求1所述的方法，其中针对所述晶片上的所述对准位点所获取的所述数据及所述检验数据是在所述检验系统上以两个或两个以上光学模式获取。

16.根据权利要求15所述的方法，其中用于所述两个或两个以上光学模式中的第一者的所述对准位点不同于用于所述两个或两个以上光学模式中的第二者的所述对准位点。