[实用新型]一种基片加载腔

权利要求书

1.一种基片加载腔，所述加载腔的第一侧壁和第二侧壁上分别设置有用于基片进出的第一开口和第二开口，其特征在于：所述加载腔内包含有基片传输机构和用于改变基片温度的温度控制装置，所述基片传输机构设置于靠近所述第一开口的位置处，用于基片的传输，所述基片传输机构包括有用于承载基片的若干长条状的机械手臂，其中各所述机械手臂之间有空档空间，所述温度控制装置设置于靠近所述第二开口的位置处，所述每相邻两个机械手臂之间的空档空间中设置有能够进行升降运动的温度控制装置。

2.根据权利要求1所述的一种基片加载腔，其特征在于：所述基片传输机构还包括一个可以在第一侧壁与第二侧壁之间往复运动的平台，且所述若干机械手臂固定设置于所述平台上。

3.根据权利要求1所述的一种基片加载腔，其特征在于：所述温度控制装置中包含有温度媒介以对基片进行加热或冷却。

4.根据权利要求1所述的一种基片加载腔，其特征在于：所述第一开口用于基片在外界大气和所述加载腔之间的传递，所述第二开口用于基片在所述加载腔和工艺腔之间的传递。

5.根据权利要求1所述的一种基片加载腔，其特征在于：所述若干机械手臂的个数为2-4个。

6.根据权利要求1所述的一种基片加载腔，其特征在于：与所述机械手臂长度方向垂直的所述基片的边长为第一边长，所述每个机械手臂的宽度小于等于所述第一边长的8%。

7.根据权利要求6所述的一种基片加载腔，其特征在于：各所述机械手臂之间空档空间的累计距离之和大于等于所述基片第一边长的70%。

8.根据权利要求1所述的一种基片加载腔，其特征在于：所述加载腔应用于线型的真空设备内。