[实用新型]一种两次曝光准确对位设备有效
申请号: | 201520516612.6 | 申请日: | 2015-07-16 |
公开(公告)号: | CN204929410U | 公开(公告)日: | 2015-12-30 |
发明(设计)人: | 张雷;赵海;刘江;彭大名 | 申请(专利权)人: | 深圳市深泽电子有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 北京市盈科律师事务所 11344 | 代理人: | 谌杰君 |
地址: | 518125 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 两次 曝光 准确 对位 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及印制电路板加工领域,具体涉及一种两次曝光准确对位设备。
背景技术
印制电路板图形转移工艺,是电路板关键工艺,是实现电路板电与信号传输以及信号屏蔽的决定性工艺。大铜皮层的针孔、缺口密切关系到电路板性能,将使电路板出现信号传输原因导致的调试或使用异常,给客户产品带来极大品质隐患,很多客户生产天线类的板对大铜皮针孔、缺口要求严格。
为了减少大铜皮层的针孔、缺口,很多公司采用曝光两次,以减少针孔、缺口的方法,对针孔、缺口确实会有很大的改善,但第二次曝光必须重新以第一次曝光为基准,用纯手工重新进行对位曝光。
上述现有的技术主要缺点:
1、工作量大:曝光两次的板,曝第二次光对位时,大约是100块板需要两小时的人工对位时间。
2、精度差:一般精度在0.2mm左右。
导致原因:
1、第二次曝光相比正常生产完全属于额外增加的劳动,其中对位是最消耗人力的岗位,每小时只能对位50块板左右。
2、因第二次对位是以第一次曝光图形为基准对位,而第一次曝光的图形本身存在边线不清晰等问题,严重影响到第二次对位的精度,且纯手工对位,经常产生对偏的情况。
本发明要解决的技术问题是大铜面的电路板曝光时容易产生很多针孔、缺口,采用两次曝光时,对位效率低,或者效率高而精度又无法保证,本发明涉及印制电路板制作领域,具体涉及一种高效率、准确度高的两次曝光对位方法。
实用新型内容
针对上述问题,本实用新型旨在提供一种辅助定位快精度高效率高的两次曝光准确对位设备。
为实现该技术目的,本实用新型的方案是:一种两次曝光准确对位设备,包括底片、定位条、辅助定位条、板体,所述底片一角设置有L型的定位条,所述底片另一端设置有辅助定位条,所述定位条和辅助定位条通过复数个磁扣固定在底片上,所述底片中部设置有图形区域,所述板体放置于图形区域,所述底片下方设置有透光孔,所述板体上设置有定位孔,所述透光孔与定位孔相对应。
作为优选,所述磁扣包括固定轴和磁帽,所述固定轴和磁帽磁性连接。
作为优选,所述板体侧面设置有微调模块,所述微调模块包括垂直固定架、水平旋钮、垂直旋钮,所述板体一侧固定在垂直固定架上。
本实用新型的有益效果,本方案采用定位条和辅助定位条双重辅助定位,能够保证两次曝光位置相近,实现两次曝光高速、精确对位;同时采用磁扣结构,方便使用者安装更换底片和板体;同时通过微调模块替代之前的纯手工对位方式,不仅可以提高生产效率,还可以提高生产对位精度。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的一次曝光的状态图
图3为本实用新型的二次曝光的状态图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型做进一步详细说明。
如图1、2、3所示,本实用新型所述的具体实施例为一种两次曝光准确对位设备,包括底片1、定位条2、辅助定位条3、板体5,所述底片1一角设置有L型的定位条2,所述底片1另一端设置有辅助定位条3,所述定位条2和辅助定位条3通过复数个磁扣4固定在底片1上,所述底片1中部设置有图形区域13,所述板体5放置于图形区域13,所述底片1下方设置有透光孔6,所述板体5上设置有定位孔7,所述透光孔6与定位孔7相对应。
为了方便更换底片,所述磁扣4包括固定轴9和磁帽8,所述固定轴9和磁帽8磁性连接。取下磁帽,即可将底片和定位条取出,方便快捷。
为了方便进行微调,所述板体5侧面设置有微调模块10,所述微调模块10包括垂直固定架11、水平旋钮13、垂直旋钮12,所述板体5一侧固定在垂直固定架11上。将板体基本对位后,将板体一侧固定在微调模块的垂直固定架上,通过调节水平旋钮和垂直旋钮进行精确定位,定位速度快,精度高。
以上所述,仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同替换和改进,均应包含在本实用新型技术方案的保护范围之内。
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