[实用新型]一种金属化薄膜电阻测试支架有效
申请号: | 201520121586.7 | 申请日: | 2015-03-02 |
公开(公告)号: | CN204422655U | 公开(公告)日: | 2015-06-24 |
发明(设计)人: | 张世铎 | 申请(专利权)人: | 黄山申格电子科技有限公司 |
主分类号: | G01R27/02 | 分类号: | G01R27/02 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 245000 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属化 薄膜 电阻 测试 支架 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种金属化薄膜电阻测试支架,属于薄膜电容器生产制造技术领域。
背景技术
现有技术中已公知的,用于制造薄膜电容器的金属化薄膜具有梯度变化或渐进变化的镀层厚度,对于在以下这些方面具有进步意义:降低自愈能耗,减少引出线与电极的接触电阻,提高承载电流的能力,提高耐压能力;金属化薄膜镀层厚度的变化直接影响金属化薄膜电阻性能的变化,为了排除材料品质、加工工艺等细微变化对产品性能的影响,以金属化薄膜的电阻性能来限定或判定金属化薄膜各定义位置处镀层厚度更符合实际需要,也更具有实际操作性。此外,即便是常规的等镀层厚度的金属化薄膜,对于薄膜镀层厚度均匀性的监控也很有必要。为了检测金属化薄膜在不同方向和不同位置处的镀层电阻特性,通常需要对金属化薄膜的多个位置进行检测,通常的检测方法需要不断地改变金属化薄膜的夹持方式,容易造成金属化薄膜的破损,或者采用手持的方式检测不同位置之间的电阻特性则存在测试误差大、检测结果的平行性差的不足。针对上述问题有必要提出可行的技术方案加以克服。
实用新型内容
本实用新型正是针对现有技术存在的不足,提供一种金属化薄膜电阻测试支架,无需多次改变金属化薄膜的夹持方式,即可完成金属化薄膜多个位置之间的电阻特性的检测,满足实际使用要求。
为解决上述问题,本实用新型所采取的技术方案如下:
一种金属化薄膜电阻测试支架,包括:
一用于平托金属化薄膜样品的支撑底座;
用于接触金属化薄膜样品的检测头,所述检测头为两个且分别连接电阻检测设备的正负极检测线;
一固定设置于所述支撑底座上用于夹持金属化薄膜样品的夹持片;
一固定设置于所述支撑底座上用于夹持金属化薄膜样品且用于固定所述检测头的固定夹持片;
一活动设置于所述支撑底座上用于固定所述检测头的固定片,所述固定片位于所述夹持片和所述固定夹持片之间;
所述夹持片、所述固定夹持片和所述固定片均为长方形且相互平行,所述固定夹持片和所述固定片在长度方向上都设置有镂空的检测滑槽,所述检测头位于所述检测滑槽内。
作为上述技术方案的改进,所述夹持片、所述固定夹持片的两端均通过安装螺栓固定连接所述支撑底座;所述支撑底座上设置有垂直于所述固定片的凸起滑道,所述凸起滑道为两个且分别位于所述固定片的两端,所述固定片的两端底部设置有配合所述凸起滑道的限位凹槽。
作为上述技术方案的改进,所述夹持片、所述固定夹持片和所述固定片均为金属制成,且所述夹持片和所述固定夹持片的底面设置有第一橡胶垫,所述支撑底座的顶面设置有第二橡胶垫,且所述夹持片和所述固定夹持片的顶面均设置有配合所述安装螺栓的安装导套。
上述改进采用金属作为主材料便于加工且刚性好,从而便于控制表面平整度,降低夹持金属化薄膜时施力不均的程度,但是金属表面过于坚硬容易刮伤金属化薄膜且摩擦力较小,夹持稳固效果不佳,因此设置第一橡胶垫和第二橡胶垫,既能够大大降低刮伤金属化薄膜的几率而且夹持很稳固,测试结果准确;此外,设置安装导套不仅可以在保证螺纹不打滑的前提下减小夹持片和固定夹持片的厚度,而且可以提高夹持的稳固性,不会发生偏转从而造成施力不均。
作为上述技术方案的改进,所述检测头包括球形触头、导电柱、以及包封所述球形触头和所述导电柱的绝缘块,所述导电柱下端连接所述球形触头,所述导电柱上端连接电阻检测设备的正负极检测线。
用于接触金属化薄膜的触头为球形触头,因此减少了尖端放电的几率,即降低了设备击穿拉火的几率,同时采用绝缘块包封导体,使得检测头之间以及检测头与测试夹持器具之间的电气绝缘性能进一步提高。
本实用新型与现有技术相比较,本实用新型的实施效果如下:
本实用新型所述的一种金属化薄膜电阻测试支架,可以选择将两个检测头均放置于所述固定夹持片的检测滑槽中或所述固定片的检测滑槽中,也可以在两个检测滑槽中各放置一个检测头,由于所述固定片可以自由滑动,而检测头可以在检测滑槽中自由滑动,因此无需多次改变金属化薄膜的夹持方式,即可完成金属化薄膜多个位置之间的电阻特性的检测,满足实际使用要求。
附图说明
图1为本实用新型所述的一种金属化薄膜电阻测试支架俯视结构示意图;
图2为本实用新型所述的一种金属化薄膜电阻测试支架平视结构示意图;
图3为图1中A—A处的剖面结构示意图;
图4为图1中B—B处的剖面结构示意图;
图5为图1中C—C处的剖面结构示意图。
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