[实用新型]一种用于PCL芯片加工的划片机的冷凝循环系统有效
申请号: | 201520045663.5 | 申请日: | 2015-01-23 |
公开(公告)号: | CN204450900U | 公开(公告)日: | 2015-07-08 |
发明(设计)人: | 陈波 | 申请(专利权)人: | 新中合光电科技(保靖)有限公司 |
主分类号: | B28D5/00 | 分类号: | B28D5/00;B01D36/02;B01D36/04 |
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地址: | 416500 湖南省湘西土家*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 pcl 芯片 加工 划片 冷凝 循环系统 | ||
技术领域
本实用新型涉机械加工领域,具体为一种用于PCL芯片加工的划片机的冷凝循环系统。
背景技术
随着的科技的发展,人们的生活水平的提升,网络成为了人们生活中不可分割的一部分,方便着人们的日常生活,可以让人不出户尽知天下事;同时人们还能通过网络购买各种商品。
在ODN网络中,最核心的无源器件是光分路器,其起到的作用是对进入端光信号进行分光处理。目前光分路器主要是采用集成光学技术生产的平面光波导(PLC)分路器,平面光波导(PLC)分路器主要由:FA(光纤阵列)、单纤Pigtail、PLC芯片组成。
PLC芯片是通过等离子交换法或光刻、腐蚀法制作成圆形的晶圆,再对圆形晶圆切割成条状晶圆,再对端面进行研磨8°角、抛光,最后再切割成颗粒装的PLC芯片。
PCL芯片加工的最后切割程序采用的是划片机,划片机切割时需要对刀片进行冷却,传统的划片机采用过滤后的自来水冷却刀片,冷却水直接排掉。这样就存在许多问题,冷却水的直接排掉,造成了冷却水的浪费,无形中增加生产成本;采用自来水冷却,冷却的效果不是很好,会降低切割效率,同时,切割出来的产品质量不好,容易出现崩边。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种用于PCL芯片加工的划片机的冷凝循环系统,可以对冷却液循环利用,降低生产成本;循环系统中设置多个过滤装置,可以保证给划片机提供的冷却液中没有固体杂质,进而生产出来的产品质量。
为实现以上目的,本实用新型采用的技术方案是:一种用于PCL芯片加工的划片机的冷凝循环系统,它包括划片机(1),所述的划片机(1)的出液口通过水管(7)连接到沉淀池一(2),所述的沉淀池一(2)通过出液过滤装置(3)与混合池(4)接通;所述的混合池(4)内部设置有泄压装置(5),且混合池(4)通过水管(7)与进液过滤装置(6)接通;所述的进液过滤装置(6)通过水管(7)与抽冷却液泵(8)接通;所述的抽冷却液泵(8)通过水管(7)与三通接头(9)的一个接口连接;所述的三通接头(9)的另外两个接口通过水管(7)分别通向划片机(1)的进液口与泄压装置(5)。
进一步的,所述的出液过滤装置(3)包括有粗过滤器(301)、沉淀池二(302)与精过滤器(303),所述的粗过滤器(301)与精过滤器(303)均和沉淀池二(302)接通,且粗过滤器(301)的另一端与沉淀池一(2)接通,精过滤器(303)的另一端与混合池(4)接通。
进一步的,所述的混合池(4)还通过水管(7)连接有抽水泵(10)和抽切削液泵(12),所述的抽水泵(10)通过水管(7)与水池(11)接通,所述的抽切削液泵(12)通过水管(7)与切削液池(13)接通。
本实用新型的有益效果:1、本实用新型一种用于PCL芯片加工的划片机的冷凝循环系统,可以通过循环系统将冷却液循环使用,降低了生产成本。
2、系统中设置了进液过滤装置和出液过滤装置,可以保证每次供给划片机的冷却液中没有固体残渣,以确保加工出来的产品的精度。
3、出液过滤装置中设置了粗过滤器和精过滤器,可以对划片机出液口排出来的冷却液进行两次过滤,保证进入到混合池时,当中的切割废墟得到了很好的清除。
4、混合池中的冷却液是抽水泵从水池中抽的水和抽切削液泵从切削液池中抽的切削液混合而成,且其比例可以通过抽水泵和抽切削液泵进行调节,保证提供给划片机的冷却液效果最佳,进而防止生产出来的产品出现崩边,提高产品质量。
5、循环系统中还是有一部分的冷却液损耗,抽水泵和抽切削液泵可以从水池和切削液池中抽取适当的水和切削液进行补充,防止出现缺少冷却液导致机械损坏的情况。
附图说明
图1为一种用于PCL芯片加工的划片机的冷凝循环系统的结构示意图。
图中所述文字标注表示为:1、划片机;2、沉淀池一;3、出液过滤装置;4、混合池;5、泄压装置;6、进液过滤装置;7、水管;8、抽冷却液泵;9、三通接头;10、抽水泵;11、水池;12、抽切削液泵;13、切削液池;301、粗过滤器;302、沉淀池二;303、精过滤器。
具体实施方式
为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案,下面结合附图对本实用新型进行详细描述,本部分的描述仅是示范性和解释性,不应对本实用新型的保护范围有任何的限制作用。
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