[实用新型]一种湿法清洗装置有效

专利信息
申请号: 201520026084.6 申请日: 2015-01-14
公开(公告)号: CN204412667U 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 王岩 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00;H01L21/02
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 余明伟
地址: 100176 北京市大兴区大*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 湿法 清洗 装置
【权利要求书】:

1.一种湿法清洗装置,其特征在于,所述装置至少包括:

喷头;所述喷头包括含有喷嘴的弯曲部及连接在弯曲部下的竖直部;

所述竖直部套设有轴承;所述轴承与所述竖直部通过一凹槽相匹配;

所述轴承上设有译码器;所述译码器与所述轴承相对固定;

所述译码器连接有读头;所述读头与一刻度条相吸合;

所述刻度条固定于一固定环上;所述译码器连接有放大器。

2.根据权利要求1所述的湿法清洗装置,其特征在于:所述凹槽套设在所述竖直部且与所述竖直部相对固定。

3.根据权利要求2所述的湿法清洗装置,其特征在于:所述轴承设有内圈和外圈;所述内圈与所述凹槽相互匹配。

4.根据权利要求3所述的湿法清洗装置,其特征在于:所述译码器与所述轴承的内圈相对固定。

5.根据权利要求4所述的湿法清洗装置,其特征在于:所述译码器与所述读头通过一弹簧相互连接。

6.根据权利要求5所述的湿法清洗装置,其特征在于:所述刻度条为环绕所述译码器、所述轴承的环形刻度条;该环形刻度条的底部与所述轴承的底部相齐平。

7.根据权利要求6所述的湿法清洗装置,其特征在于:所述环形刻度条的上表面高于所述译码器的顶部。

8.根据权利要求7所述的湿法清洗装置,其特征在于:所述环形刻度条的上表面与所述凹槽的上表面相齐平。

9.根据权利要求1所述的湿法清洗装置,其特征在于:所述喷头的竖直部连接有马达。

10.根据权利要求1所述的湿法清洗装置,其特征在于:所述放大器中设有状态显示器、串行接口、输入、输出网端以及控制电源。

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