[发明专利]一种泡沫金属的高速真空镀膜设备及工艺

权利要求书

1.一种泡沫金属的高速真空镀膜设备，其特征在于：包括相互对称的上卷绕室和下卷绕室，上卷绕室和下卷绕室中间设有镀膜室；所述上卷绕室和下卷绕室内设有卷辊；所述卷辊通过电机带动；所述镀膜室包括壳体，壳体上下分别设有法兰；所述壳体内壁上设有N组相对的阴极靶和冷却装置；所述冷却装置与循环管相连，阴极靶与设备的溅射电源相连；所述电机、溅射电源等通过PCL控制器控制。

2.根据权利要求1所述的泡沫金属的高速真空镀膜设备，其特征在于：所述上卷绕室和下卷绕室的端口呈长方形，且端口处分别设有连接法兰，该连接法兰分别与镀膜室的法兰连接。

3.根据权利要求1所述的泡沫金属的高速真空镀膜设备，其特征在于：所述阴极靶表面为平面，冷却装置为长方体冷却板。

4.根据权利要求1所述的泡沫金属的高速真空镀膜设备，其特征在于：所述阴极靶表面为弧面，冷却装置为圆柱形冷却辊。

5.根据权利要求4所述的泡沫金属的高速真空镀膜设备，其特征在于：所述镀膜室内位于法兰处设有导向辊。

6.根据权利要求1-5中任意一项权利所述的泡沫金属的高速真空镀膜设备，其特征在于：所述阴极靶在镀膜室的壳体内交错排列。

7.根据权利要求1所述的泡沫金属的高速真空镀膜设备的使用工艺，包括以下步骤，其特征在于：（1）将高速真空镀膜设备抽真空，然后通入惰性气体；（2）启动PCL控制器，镀膜金属通过阴极靶溅射到模芯上；（3）在镀膜的同时冷却装置将模芯冷却；（4）通过改变上卷绕室和下卷绕室中的卷辊的转动方向，使得模芯自动多次镀膜。

8.根据权利要求7所述的泡沫金属的高速真空镀膜设备的使用工艺，其特征在于：镀膜金属包括镍、铜、铝、钛。

9.根据权利要求8所述的泡沫金属的高速真空镀膜设备的使用工艺，其特征在于：工艺条件包括：镀膜速度：1~10m/min；镀膜功率：3~10KW；镀膜往复次数：2~10次；惰性气体流量：100~400SCCM；镀膜真空度：小于等于6×10^-1Pa。

10.根据权利要求7或8或9所述的泡沫金属的高速真空镀膜设备的使用工艺，其特征在于：所述惰性气体为氩气。