[发明专利]薄膜沉积装置

权利要求书

1.一种薄膜沉积装置，其特征在于，包括：

腔室，其形成有内部空间，在形成上表面的遮断膜的一区域中形成有供沉积对象基板配 设的开口部；

原料供应部，其在所述腔室的内部空间内移动的同时向所述遮断膜提供沉积原料；及

原料收集部，在所述开口部的至少一侧设置在所述原料供应部和所述遮断膜之间，用于 收集向遮断膜喷射的沉积原料。

2.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述原料收集部包括：捕获器，其在与原料供应部相对的一面上形成有流入口，并且设 置在所述原料供应部的上侧；驱动部，用于使所述捕获器在与原料供应部并排的方向上往返 移动；及排出部，其一端部连接于所述捕获器的流入口，另一端连接于腔室的外部，用于排 出收集到捕获器上的沉积原料。

3.根据权利要求2所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述驱动部包括：驱动杆，其一端部能够转动地连接于腔室，另一端部连接于捕获器， 用于使捕获器在与原料供应部并排的方向上往返移动；及驱动马达，用于向所述驱动杆提供 驱动力。

4.根据权利要求3所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

通过在腔室的内壁面与原料供应部的移动方向并排设置的线性导向器，来引导所述捕获 器的往返移动。

5.根据权利要求2所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述排出部包括：连接杆，其一端部能够转动地连接于腔室，另一端部连接于捕获器； 及排出通道，其在所述连接杆的内部沿长度方向形成，用于连接捕获器和腔室的外部空间。