[发明专利]一种工业化沉积CIGS太阳电池吸收层的方法及设备有效
申请号: | 201510909678.6 | 申请日: | 2015-12-08 |
公开(公告)号: | CN105428457B | 公开(公告)日: | 2017-03-22 |
发明(设计)人: | 王胜利;赵岳;申绪男;刘帅奇;赖运子;赵彦民;乔在祥 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十八研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司12101 | 代理人: | 李凤 |
地址: | 300384 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工业化 沉积 cigs 太阳电池 吸收 方法 设备 | ||
技术领域
本发明属于柔性薄膜太阳电池技术领域,特别是涉及一种工业化沉积CIGS太阳电池吸收层的方法及设备。
背景技术
近年来薄膜太阳电池发展迅速。CIGS薄膜太阳电池由于其效率高、稳定性好、抗辐射能力强等优点,被称为“最有前途的太阳电池”之一,成为研究的焦点。目前,德国太阳能和氢能研究中心(ZSW)研制的实验室小面积(约0.5cm2)CIGS薄膜太阳电池实现了21.7%的转换效率。在工业化生产方面,以玻璃为衬底的CIGS薄膜太阳电池的组件效率已到达10%-15%,其工业化进程在不断加快。
柔性PI(聚酰亚胺)作为衬底的CIGS薄膜太阳电池具有质量轻、可弯曲、质量比功率高、应用范围更广泛等显著优点,因此开展适合于工业化生产的柔性PI衬底CIGS薄膜太阳电池研究极为重要。
目前公知的工业化生产CIGS薄膜太阳电池方法多涉及玻璃衬底的刚性太阳电池。柔性PI衬底耐热温度有限、高温下易变行,这不利于生成结晶质量优、附着性好的CIGS吸收层。工业化生产柔性PI衬底CIGS薄膜太阳电池吸收层研究鲜有报道。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是,提供一种以柔性PI为衬底,制备成分均匀、结晶质量高,适用于工业化生产的CIGS薄膜太阳电池吸收层的方法及设备。
为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种工业化沉积CIGS太阳电池吸收层的设备,蒸发腔室包括作为放卷室的第一腔室,作为工艺室的第二腔室、第三腔室和第四腔室,和作为收卷室的第五腔室;第一腔室、第二腔室、第三腔室、第四腔室、第五腔室依次排列,相邻腔室之间通过不锈钢板隔断,但腔室之间互通;蒸发室内上部设置有带动衬底行进的放卷器、倒卷滚轴、收卷器、纠偏系统,放卷器在第一腔室,收卷器在第五腔室,在第五腔室中还设置有XRF测试仪,第一和第五腔室外连接有抽真空系统;第二腔室、第三腔室和第四腔室的顶部沿着衬底行进方向设置衬底加热背板,衬底加热背板平行安置于衬底上方,第二腔室、第三腔室和第四腔室中安置有蒸发源,第二腔室蒸发源依次为Se、In、Ga、Se蒸发源,第三腔室蒸发源依次为Se、Cu、Se蒸发源,第四腔室蒸发源依次为Se、In、Ga、NaF、Se蒸发源,衬底加热背板与衬底之间安装有热电偶,蒸发源安装有热电偶,热电偶与PID控制器相连接。
所述Se蒸发源为沿衬底幅宽方向的线性源,其余蒸发源沿衬底走带方向呈左右两列均匀分布在衬底下方。
所述Se蒸发源上部为圆柱形管腔,其上分布有等间距的小孔,管腔内置加热装置。
采用上述设备工业化沉积CIGS太阳电池吸收层的方法,包括以下步骤:
(1)使用镀有500-800nmMo背电极的柔性聚酰亚胺PI为衬底,将衬底Mo膜面向下安装在蒸发腔室卷绕系统内,对蒸发腔室抽真空,待真空度优于1.0×10-3Pa时,将衬底温度加至400-550℃,Cu蒸发源加热至1100-1400℃,In蒸发源加热至900-1200℃,Ga蒸发源加热至900-1200℃,Se蒸发源加热至220-260℃,NaF蒸发源加热至600-800℃;
(2)启动装卷,开始镀膜,衬底通过第二腔室时蒸发沉积In、Ga、Se:衬底温度为400℃,In、Ga、Se在衬底表面形成预制层IGS;
(3)衬底通过第三腔室时蒸发沉积Cu、Se:衬底温度保持在530℃以上,Cu源蒸发的Cu小部分扩散进入IGS薄膜形成CIGS,大部分Cu与Se结合形成CuxSe;
(4)衬底通过第四腔室时蒸发沉积In、Ga、Se及NaF:衬底温度保持在530℃以上,In、Ga、Se与剩余的CuxSe反应生成CIGS;最后蒸发NaF,完成吸收层的后掺Na工艺;
(5)衬底通过第五腔室,XRF测试仪进行在线测试与分析,最终由收卷器完成卷绕,实现Roll-to-Roll工艺。
所述步骤(2)中蒸发的In、Ga总量占整个吸收层In、Ga蒸发总量的10%,Se保持过量蒸发。
所述步骤(4)中沉积的In、Ga总量为整个CIGS薄膜总量的90%,Se始终保持过量的蒸发。
本发明的有益效果是:
1.本发明以柔性PI为衬底,通过控制Cu、In、Ga、Se蒸发先后顺序、蒸发速率,最终薄膜经历富Cu生长过程,在较低温度条件下获得了高结晶质量吸收层。
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