[发明专利]一种芯片显影定影装置在审

专利信息
申请号: 201510487951.0 申请日: 2015-08-10
公开(公告)号: CN104977817A 公开(公告)日: 2015-10-14
发明(设计)人: 滕勇;骆军;彭应龙 申请(专利权)人: 乐山无线电股份有限公司
主分类号: G03F7/26 分类号: G03F7/26;G03F7/40
代理公司: 四川力久律师事务所 51221 代理人: 熊晓果;林辉轮
地址: 614000 *** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 芯片 显影 定影 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种芯片制造设备,特别涉及一种芯片显影定影装置。

背景技术

目前在芯片生产过程中,芯片显影、定影全靠手工操作,而在目前市场竞争全球化,开发周期不断缩短,半导体元器件需求量急速扩张的情况下,手工操作不仅操作时间长易导致疲劳、操作一致性差,使得芯片生产的速率低下,而且手工操作过程中容易出现芯片漏显,使得次品率较高。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术中芯片显影、定影采用手工操作时间长易导致疲劳、手动操作多导致操作一致性差,漏显等问题,提供一种采用机器半自动化的生产替代原有手工操作,使芯片生产速率明显提高次品率明显降低的芯片显影、定影装置。

为了实现上述发明目的,本发明提供了以下技术方案:

一种芯片显影定影装置,包括:

机架,所述机架向上伸出一支撑轴;

旋转单元,设置于所述支撑轴顶端并以所述支撑轴为圆心进行旋转;

N个升降单元,一端与所述旋转单元连接,另一端连接一芯片承载栏;

N个容器,设置于所述机架上,所述容器开口向上且内部盛有显影液或定影液;

控制单元,用于控制所述旋转单元、升降单元的运动;承放于所述芯片承载栏内的芯片通过所述升降单元下降进入所述容器进行显影或定影,完成后上升抬离所述容器;

其中,N为1以上自然数。

优选的,所述旋转单元包括圆盘及设置所述圆盘上的驱动电机,用于驱动所述圆盘进行转动。

优选的,所述圆盘上设置有接近开关,用于在芯片显影定影装置复位,在圆盘转到原点时反馈原点信号,使驱动电机停止转动,圆盘停在原点,所述原点为芯片承载栏初始承挂位置。

优选的,所述接近开关为光电接近开关。

优选的,所述升降单元包括气缸和一端连接所述气缸的搅拌电机,所述搅拌电机另一端连接所述芯片承载栏,所述气缸用于带动所述搅拌电机及芯片承载栏进入或离开所述容器。

优选的,所述气缸为内置磁环型气缸。

优选的,所述内置磁环型气缸上下两端设置有感应器,用于感应所述气缸的运动位置,并将感应的位置信息传输到所述控制单元。

优选的,所述内置磁环型气缸连接有一电磁阀,所述电磁阀连接一继电器,所述继电器还连接所述搅拌电机;

所述继电器接收所述控制单元信号控制电磁阀的通断电以控制所述气缸的运动,还控制所述搅拌电机的开启与关闭;

所述芯片承载栏在气缸带动下进入所述容器后,气缸停止运动,所述继电器开启搅拌电机。

优选的,所述控制单元包括可编程逻辑控制器和触摸屏。

与现有技术相比,本发明的有益效果:通过本发明提供地一种芯片显影定影装置,以半自动机械式生产替代原有手工操作,解决了人工操作时间长易导致疲劳、操作一致性差的问题,使得芯片生产的速率明显提高。同时也解决了手工操作过程中容易出现芯片漏显的问题,使次品率明显降低。

附图说明。

图1为本发明一种芯片显影定影装置结构示意图。

图2为本发明实施例1和2中一种芯片显影定影装置俯视示意图。

图中标记:1-机架,11-支撑轴,21-第一显影定影缸,22-第二显影定影缸,23-第三显影定影缸,24-第四显影定影缸,25-第五显影定影缸,3-圆盘,4-旋转伺服电机,5-光电接近开关,61-第一内置磁环型气缸,62-第二内置磁环型气缸,63-第三内置磁环型气缸,64-第四内置磁环型气缸,65-第五内置磁环型气缸,66-第六内置磁环型气缸,7-无刷直流电机,8-芯片承载栏,9-磁性光电传感器。

具体实施方式

下面结合试验例及具体实施方式对本发明作进一步的详细描述。但不应将此理解为本发明上述主题的范围仅限于以下的实施例,凡基于本发明内容所实现的技术均属于本发明的范围。

实施例1

参看图1、图2,

一种芯片显影定影装置,包括:

机架1,所述机架1向上伸出一支撑轴11;

设置于所述支撑轴11顶端并可以其为圆心进行旋转的圆盘3,所述圆盘3上设置有一驱动电机,所述驱动电机为旋转伺服电机4,所述旋转伺服电机4用于驱动所述圆盘3绕所述支撑轴11进行转动。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐山无线电股份有限公司,未经乐山无线电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510487951.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top