[发明专利]一种AHVA面板的制造方法在审

专利信息
申请号: 201510473786.3 申请日: 2015-08-05
公开(公告)号: CN105068292A 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 曾伟宁;丘兆仟 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1362
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 一种 ahva 面板 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种超大视角高清晰度(AdvancedHyperViewingAngle,AHVA)面板的制造方法,其特征在于,该制造方法包括以下步骤:

形成一第一绝缘层;

涂布一平坦层于所述第一绝缘层的上方;

沉积一第一导电层于所述平坦层的上方,其中,所述第一导电层与所述平坦层对齐(self-align);

形成一第二绝缘层于所述第一导电层的上方;以及

形成一第二导电层于所述第二绝缘层的上方。

2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,在上述沉积所述第一导电层的步骤与形成所述第二绝缘层的步骤之间,该制造方法还包括:

对所述平坦层进行曝光;以及

利用显影液去除曝光区域所对应的所述平坦层的一部分以及所述第一导电层的一部分,以实现所述第一导电层与所述平坦层对齐。

3.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,上述涂布所述平坦层的步骤还包括对所述平坦层进行曝光,其中,在上述沉积所述第一导电层的步骤与形成所述第二绝缘层的步骤之间,该制造方法还包括:

利用显影液去除曝光区域所对应的所述平坦层的一部分以及所述第一导电层的一部分,以实现所述第一导电层与所述平坦层对齐。

4.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,在上述沉积所述第一导电层的步骤与形成所述第二绝缘层的步骤之间,该制造方法还包括:

涂布一光刻胶层于所述第一导电层的上方,并对所述光刻胶层和所述平坦层进行曝光;

利用显影液去除曝光区域所对应的所述平坦层的一部分、所述第一导电层的一部分以及所述光刻胶层的一部分;以及

湿蚀刻所述第一导电层从而剥离其上方的所述光刻胶层,以控制所述第一导电层的退开距离。

5.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述平坦层为一有机平坦层。

6.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,该制造方法还包括:

形成一第一金属层于一基板的上方,藉由所述第一金属层定义薄膜晶体管的栅极;

形成一栅极绝缘层于所述第一金属层的上方;以及

形成一第二金属层于所述栅极绝缘层的上方,藉由所述第二金属层定义所述薄膜晶体管的源极和漏极,其中,所述薄膜晶体管的漏极经由一过孔电性耦接至所述第二导电层。

7.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述第一导电层与所述第二导电层均为氧化铟锡材质。

8.根据权利要求7所述的制造方法,其特征在于,所述第一导电层为一共通电极,所述第二导电层为一像素电极。

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