[发明专利]一种本压设备及其清洁方法在审

专利信息
申请号: 201510401816.X 申请日: 2015-07-09
公开(公告)号: CN105101774A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: 孙同虎 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H05K13/04 分类号: H05K13/04;B08B1/00;B08B13/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 设备 及其 清洁 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及本压技术领域,尤其涉及一种本压设备及其清洁方法。

背景技术

目前,本压设备广泛应用于于FPC/FFC与PCB压接和触摸屏本压生产,在实际生产过程中,本压设备中本压基台台面上的残留异物(例如各向异性导电胶残留)会导致产品的破损,尤其是在B1P6工程设备中特别突出,由于P6设备生产节拍为每3.5秒加工1片产品,一旦本压基台的台面上存在会导致产品破损的残留异物时,本压设备造成的产生破损将是批量性的,进而带来很大的经济损失,因此需要能够及时地对本压基台台面上的异物进行清洁。

目前,解决本压基台台面残留异物所采用的措施是人工清洁。但是,由于本压基台台面上的残留异物产生后导致产品破损的几率没有规律性,并且采用人工清洁的方式对本压基台的台面进行清洁的频率也无法管控,进而不能及时地对本压基台的台面进行清洁,进而不能有效避免产品破损现象的产生。

发明内容

本发明提供一种本压设备及其清洁方法,该本压设备能够对本压基台的台面按照设定频率进行自动清洁,进而能够减少因本压基台台面上的残留异物导致产品破损现象的发生。

为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:

一种本压设备,包括至少一个本压基台、导轨、刀头机构、刀头驱动机构以及控制所述刀头驱动机构动作的控制机构;其中:

所述导轨与所述本压基台相对固定、且延伸方向与所述本压基台的台面平行;

所述刀头机构安装于所述刀头驱动机构;

所述刀头驱动机构与所述刀头机构传动连接、且可驱动所述刀头机构沿所述导轨的延伸方向以及向远离所述导轨的方向移动;

所述控制机构与所述刀头驱动机构信号连接、用于以设定的频率控制所述刀头驱动机构动作。

在上述本压设备中,控制机构与刀头驱动机构信号连接并以设定的频率控制刀头驱动机构动作,刀头驱动机构的每一次动作过程中,刀头机构在刀头驱动机构的驱动下从待机位置相对于导轨沿导轨的延伸方向进行水平位置调节,并且沿远离导轨的方向移动进行高度位置的调节,直至刀头机构调节至清洁初始位置后与本压基台的台面配合,然后,刀头驱动机构驱动刀头机构沿平行于导轨延伸方向的方向移动对本压基台的台面进行清洁直至到达清洁末端位置,此时对本压基台台面的清洁过程结束;然后,刀头机构在刀头驱动机构的驱动下复位至待机位置,刀头驱动机构的一次动作完成。

上述本压设备能够通过控制机构的控制信号按照设定的频率对本压基台的台面进行自动清洁,进而能够及时对本压基台台面上的异物进行清洁,减少因本压基台台面上的残留异物导致产品破损现象的发生。

优选地,刀头驱动机构包括可沿所述导轨的延伸方向滑动地安装于所述导轨的滑动模块;可相对与所述滑动模块沿垂直于所述导轨延伸方向移动地安装于所述滑动模块的举升模块,所述刀头机构安装于所述举升模块;驱动所述滑动模块以及所述举升模块动作的驱动模块,所述驱动模块与所述控制机构信号连接。

优选地,所述滑动模块包括与所述导轨滑动配合的滑块和固定于所述滑块的缸体;所述举升模块包括与所述缸体滑动配合以形成伸缩缸结构的伸缩杆,所述刀头机构安装于所述伸缩杆的伸出端;所述驱动模块包括用于驱动所述滑块动作的第一驱动装置、和与所述伸缩缸配合的第二驱动装置。

优选地,所述第一驱动装置包括安装于所述导轨的伺服马达,所述伺服马达与所述控制及机构信号连接;与所述伺服马达、导轨以及所述滑块配合形成丝杠副机构的螺纹丝杠。

优选地,当所述伸缩缸为气缸时,所述第二驱动装置为气压站系统;当所述伸缩缸为油缸时,所述第二驱动装置为液压站系统。

优选地,所述滑动模块包括与所述导轨滑动配合的滑块,所述滑块设有导向方向垂直于所述导轨延伸方向的导向孔;所述举升模块包括枢装于所述滑块的螺纹套,所述螺纹套的轴心线与所述导向孔的轴心线重合;设置于所述导向孔内且与所述螺纹套螺纹配合的驱动杆,所述驱动杆与所述导向孔内壁之间设有对所述驱动杆周向限位的限位机构,当所述螺纹套绕其轴心线旋转时驱动所述驱动杆沿其轴心线延伸方向移动,所述驱动杆的伸出端伸出所述滑块、且所述刀头机构安装于所述驱动杆的伸出端;所述驱动模块包括用于驱动所述滑块动作的第三驱动装置、和与所述螺纹套旋转的第四驱动装置。

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