[发明专利]无机基团不对称修饰多阴离子形成的手性离子化合物及其制备方法与应用有效
| 申请号: | 201510385647.5 | 申请日: | 2015-07-04 |
| 公开(公告)号: | CN105000600A | 公开(公告)日: | 2015-10-28 |
| 发明(设计)人: | 吴琼;王海;王宝玲;王晓燕;邹涛隅;乔振芳;段良飞 | 申请(专利权)人: | 昆明学院 |
| 主分类号: | C01G49/00 | 分类号: | C01G49/00;B01J23/881 |
| 代理公司: | 昆明知道专利事务所(特殊普通合伙企业) 53116 | 代理人: | 姜开侠;谢乔良 |
| 地址: | 650214 云南省*** | 国省代码: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 无机 基团 不对称 修饰 阴离子 形成 手性 离子 化合物 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种无机基团不对称修饰多阴离子形成的手性离子化合物,其特征在于所述的离子化合物分子式为[As2Fe6Mo22O85AsO2(OH)2] 15- ,所述的离子化合物的晶体结构数据如下表:
。
2.一种权利要求1所述的无机基团不对称修饰多阴离子形成的手性离子的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
A、将多金属氧酸盐As2Fe6Mo22O85(H2O)14-溶于质量比20~25倍的蒸馏水中得到溶液a,溶液a加热至80~90℃,并于80~90℃恒温搅拌回流0.5~1.5h,然后滴加多金属氧酸盐As2Fe6Mo22O85(H2O)14-质量比45~55倍的NaH2AsO4溶液得到溶液b;
B、将A步骤得到的溶液b于70~80℃恒温搅拌回流8~16h,过滤得到滤液,将滤液滴加到等体积的二氯甲烷中,10~30℃下静置20~28天至出现黄色块状晶体,收集晶体即得到目标物——无机基团不对称修饰多阴离子形成的手性离子化合物[As2Fe6Mo22O85AsO2(OH)2] 15-。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于A步骤中所述的多金属氧酸盐As2Fe6Mo22O85(H2O)14-是经以下步骤制备得到,具体包括以下步骤:
A、取As2O3溶解于质量比20~30倍的盐酸溶液中得到溶液c;
B、取(NH4)6Mo7O24·4H2O溶解于质量比8~12倍的蒸馏水中得到溶液d;
C、将B步骤得到的溶液d加入到A步骤得到的溶液c中,搅拌均匀后再加入溶液体积质量比1/50~1/60的FeCl3·6H2O,用氨水调节溶液pH值至5.5~6.5得到悬浮液e,将悬浮液e加热到85~95℃至溶液澄清,过滤,滤液于10~30℃下静置20~28天至棕色晶体析出,得到目标物——多金属氧酸盐As2Fe6Mo22O85(H2O)14-。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于A步骤中所述的盐酸溶液浓度为5~7mol/L。
5.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于C步骤中所述的氨水溶液浓度为2~4mol/L。
6.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于A步骤中所述的NaH2AsO4的浓度为3~4mmol/L。
7.一种权利要求1所述的无机基团不对称修饰多阴离子形成的手性离子化合物的应用,其特征在于所述的无机基团不对称修饰多阴离子形成的手性离子化合物在制备光催化剂中的应用。
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