[发明专利]一种电荷连接层及其制造方法、叠层OLED器件在审

专利信息
申请号: 201510372259.3 申请日: 2015-06-30
公开(公告)号: CN104966789A 公开(公告)日: 2015-10-07
发明(设计)人: 徐超 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 张文娟;朱绘
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 电荷 连接 及其 制造 方法 oled 器件
【权利要求书】:

1.一种电荷连接层,其特征在于,所述电荷连接层包括:第一材料层和第二材料层,在所述第一材料层和第二材料层中均形成有凸起部和凹陷部,其中,所述第一材料层的凸起部延伸至所述第二材料层的凹陷部,所述第二材料层的凸起部延伸至所述第一材料层的凹陷部。

2.如权利要求1所述的电荷连接层,其特征在于,所述第一材料层与第二材料层形成交错配合的梳齿状结构。

3.如权利要求1所述的电荷连接层,其特征在于,

所述第一材料层为P型材料层,所述第二材料层为N型材料层;或,

所述第一材料层为N型材料层,所述第二材料层为P型材料层。

4.如权利要求3所述的电荷连接层,其特征在于,所述P型材料层中的P型掺杂剂材料包括以下所列项中的任一项或几项:

HAT-CN,FeCl3:NPB,MoO3:NPB和F4-TCNQ:m-MTDATA。

5.如权利要求3所述的电荷连接层,其特征在于,所述N材料层中的N型掺杂剂材料包括以下所列项中的任一项或几项:

Li、Mg、Ca、Cs、LiF、CsF、Cs2CO3、CsN3和Rb2CO3

6.如权利要求1~5中任一项所述的电荷连接层,其特征在于,所述第一材料层的凸起部和凹陷部形成在所述第一材料层的第一侧,所述第一材料层的第二侧是平坦的。

7.如权利要求6所述的电荷连接层,其特征在于,所述第二材料层的凸起部和凹陷部形成在所述第二材料层的第二侧,所述第二材料层的第一侧是平坦的。

8.一种叠层OLED器件,其特征在于,所述叠层OLED器件包括:第一发光单元、第二发光单元和如权利要求1~7中任一项所述的电荷连接层,其中,所述第一发光单元和第二发光单元通过所述电荷连接层串联。

9.一种制造电荷连接层的方法,其特征在于,所述方法包括:

利用第一材料形成第一材料单元,并利用第一材料在所述第一材料单元上形成若干个凸起部和凹陷部;

利用第二材料填充各个凹陷部,并利用所述第二材料在所述凸起部和填充后的凹陷部上形成第二材料单元。

10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,

所述第一材料为P型材料且所述第二材料为N型材料;或,

所述第一材料为N型材料且所述第二材料为P型材料。

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