[发明专利]一种可实时监控应力的MOCVD设备有效
申请号: | 201510365957.0 | 申请日: | 2015-06-29 |
公开(公告)号: | CN104947089B | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 郑锦坚;寻飞林;李志明;杜伟华;邓和清;伍明跃;周启伦;林峰;李水清;康俊勇 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361009 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 实时 监控 应力 mocvd | ||
1.一种可实时监控应力的MOCVD设备,包括可调节高度的显微镜、可实时调节高度的拉曼光纤探头、控制竖直方向Z轴高度的步进电机和驱动器、氮气吹扫部件、拉曼光源的激光器、拉曼测试部件、控制电脑和CCD,所述可调节高度的显微镜和可实时调节高度的拉曼光纤探头内置于MOCVD反应腔中,并在可实时调节高度的拉曼光纤探头两侧加氮气吹扫部件。
2.根据权利要求1所述的可实时监控应力的MOCVD设备,其特征在于:所述的MOCVD反应腔中可调节高度的显微镜和可实时调节高度的拉曼光纤探头通过电脑控制的步进电机和驱动器来调节竖直方向Z轴高度。
3.根据权利要求1所述的可实时监控应力的MOCVD设备,其特征在于:所述的MOCVD反应腔中内置的可实时调节高度的拉曼光纤探头两侧加装氮气吹扫部件,避免外延生长过程中的反应物在光纤探头中反应,保证探头的洁净。
4.根据权利要求1所述的可实时监控应力的MOCVD设备,其特征在于:所述的MOCVD反应腔中内置的可实时调节高度的拉曼光纤探头前装有镜头开关。
5.根据权利要求1所述的可实时监控应力的MOCVD设备,其特征在于:所述的MOCVD反应腔通过外置的拉曼测试系统,使激光通过光路进入拉曼光纤探头,探测的拉曼信号通过拉曼光纤探头的光路系统,通过拉曼滤镜,从而被CCD探测。
6.根据权利要求1所述的可实时监控应力的MOCVD设备,其特征在于:所述的MOCVD反应腔的拉曼光纤探头在竖直方向Z轴方向的位置由控制电脑通过计算干涉曲线的外延生长速率和时间,实时调节竖直方向Z轴高度。
7.根据权利要求1所述的可实时监控应力的MOCVD设备,其特征在于:所述拉曼光源的激光器采用Ar+ 488 nm激光器、Nd:YAG 532 nm激光器或He-Ne 633 nm激光器。
8.一种采用权利要求1~7中所述的MOCVD设备进行实时监控应力的方法,其特征在于:通过在外延生长过程中控制电脑计算外延层的厚度,然后,实时调节步进电机和驱动器的位置,保证拉曼激光源始终处于聚焦样品表面的状态,同时,氮气吹扫部件保证可实时调节高度的光纤探头不会被污染,从而提升拉曼信号的灵敏度和信噪比,实现外延生长中的实时应力监控。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的