[发明专利]基板处理装置及其控制方法、控制电路与维护方法有效
| 申请号: | 201510362489.1 | 申请日: | 2010-12-16 |
| 公开(公告)号: | CN105185697B | 公开(公告)日: | 2019-02-15 |
| 发明(设计)人: | 渡边智行;铃木康裕;横山和弘 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
| 主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁 |
| 地址: | 日本东京都千代*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 处理 装置 及其 控制 方法 控制电路 维护 | ||
本发明是有关于一种基板处理装置及其控制方法、控制电路与维护方法。基板处理装置包括:进行用以处理基板的规定动作的驱动部;将配置着驱动部的驱动区、与驱动区的周围的周围区加以区分的间隔部;覆盖驱动区及周围区的室本体部;设置在驱动区及周围区的至少一方的电离器;及对基板进行规定处理的处理部。基板处理装置的控制方法是:对应于设置在上述室本体部的第1门的第1开关、与对应于设置在上述间隔部的第2门的第2开关为分别连接,使上述电离器进行动作。
本申请是国际申请号为PCT/JP2010/072706,国际申请日为2010年12月16日,于2012年06月12日进入中国国家阶段的原申请申请号201080056521.9,发明名称为“基板处理装置的维护方法以及安全装置”的分案申请。
技术领域
本发明是有关于一种曝光装置等的基板处理装置的维护方法。
背景技术
就液晶显示面板或半导体装置等的制造的光刻(photolithography)步骤中所使用的曝光装置而言,为了对基板实施微细加工,所以使该曝光装置被室(chamber)所覆盖,以防止灰尘等的污染物或杂质进入至装置内。
通常,在曝光装置中,为了对装置进行维护,而需要由作业人员从设置于室的门进入至装置内部(被室所覆盖的室内)。为了确保此时的作业人员的安全,在先前的曝光装置中,设置着:在室的门被打开的情况下,使曝光装置内的驱动部停止的安全装置(联锁(interlock)机构)(例如,参照专利文献1)。
先行技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开2001-160534号公报
发明内容
发明要解决的课题
然而,在专利文献1所记载的曝光装置中,与室的门的打开连动而停止的对象设为装置内的所有驱动部,因而无法在室内藉由驱动部的驱动状态的观察等来进行检查。
对此,本发明的目的在于,提供一种基板处理装置的维护方法及安全装置,能够进行曝光装置等的基板处理装置所包括的驱动部的驱动状态的检查,并且能够确保进行维护时的作业人员的安全。
本发明的第1态样为一种基板处理装置的控制方法,为控制基板处理装置的控制方法,上述基板处理装置包括:进行用以处理基板的规定动作的驱动部;将配置着上述驱动部的驱动区、与上述驱动区的周围的周围区加以区分的间隔部;覆盖上述驱动区及上述周围区的室本体部;设置在上述驱动区及上述周围区的至少一方的电离器;及对上述基板进行规定处理的处理部,上述基板处理装置的控制方法的特征在于包括:对应于设置在上述室本体部的第1门的第1开关、与对应于设置在上述间隔部的第2门的第2开关为分别连接,而使上述电离器进行动作。
本发明的第2态样为一种基板处理装置的控制电路,为控制基板处理装置的控制电路,上述基板处理装置包括:进行用以处理基板的规定动作的驱动部;将配置着上述驱动部的驱动区、与上述驱动区的周围的周围区加以区分的间隔部;覆盖上述驱动区及上述周围区的室本体部;设置在上述驱动区及上述周围区的至少一方的电离器;及对上述基板进行规定处理的处理部,上述基板处理装置的控制电路的特征在于包括:第1开关,对应于设置在上述室本体部的第1门;以及第2开关,对应于设置在上述间隔部的第2门,上述第1开关与上述第2开关为分别连接,而使上述电离器进行动作。
本发明的第3态样为一种基板处理装置,其特征在于包括:上述的基板处理装置的控制电路。
本发明的第4态样为一种上述的基板处理装置的维护方法。
发明的效果
根据本发明的态样,能够进行曝光装置等的基板处理装置所包括的驱动部的驱动状态的检查,并且能够确保进行维护时的作业人员的安全。
附图说明
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