[发明专利]CIGS基薄膜太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510311545.9 申请日: 2015-06-09
公开(公告)号: CN104867998A 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 李艺明;邓国云;田宏波 申请(专利权)人: 厦门神科太阳能有限公司
主分类号: H01L31/0445 分类号: H01L31/0445;H01L31/18;H01L31/076
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 361009 福建省厦*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: cigs 薄膜 太阳能电池 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种CIGS基薄膜太阳能电池,依次包括衬底、金属背电极层、p型光吸收层、缓冲层和n型透明导电膜层,其特征在于,所述金属背电极层与p型光吸收层之间还包括一层绝缘薄膜层,所述绝缘薄膜层上分布多个不规则孔洞。

2.根据权利要求1所述的CIGS基薄膜太阳能电池,其特征在于,所述的绝缘薄膜层为氧化硅薄膜层、氮化硅薄膜层或者氮氧化硅薄膜层。

3.根据权利要求1所述的CIGS基薄膜太阳能电池,其特征在于,所述的金属背电极层由Mo、Ti或它们的组合构成,所述p型光吸收层为黄铜矿结构并由化合物半导体构成。

4.根据权利要求1所述的CIGS基薄膜太阳能电池,其特征在于,所述的绝缘薄膜层的厚度不大于500nm。

5.一种CIGS基薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1,在衬底上形成金属背电极层;

步骤2,在金属背电极层上沉积一层含有硅和铝的氧化物薄膜层、或沉积一层含有硅和铝的氮化物薄膜层、或沉积一层硅和铝的氮氧化物薄膜层,采用无机酸溶液或碱的水溶液对所述薄膜层进行浸渍;

步骤3,对所述薄膜层进行清洗、干燥,由此形成一层分布多个不规则孔洞的绝缘薄膜层;

步骤4,在绝缘薄膜层上形成具有黄铜矿结构的p型光吸收层;

步骤5,在p型光吸收层上形成缓冲层;

步骤6,在缓冲层上形成n型透明导电层。

6.根据权利要求5所述的CIGS基薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述绝缘薄膜层为氧化硅薄膜层、氮化硅薄膜层或者氮氧化硅薄膜层。

7.根据权利要求5所述的CIGS基薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述无机酸为盐酸,所述碱的水溶液为氢氧化钠的水溶液。

8.根据权利要求5所述的CIGS基薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述的硅和铝的氧化物薄膜层、硅和铝的氮化物薄膜层、硅和铝的氮氧化物薄膜层采用磁控溅射沉积或真空蒸发沉积。

9.根据权利要求5所述的CIGS基薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述步骤2,在金属背电极层上沉积一层含有氧化硅和三氧化钼的混合薄膜层,采用氨水或碱的水溶液对所述混合薄膜层进行浸渍;所述步骤3,对所述薄膜层进行清洗、干燥,由此形成一层分布多个不规则孔洞的绝缘薄膜层,所述绝缘薄膜层为氧化硅薄膜层。

10.根据权利要求9所述的CIGS基薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述步骤2中,氧化硅和三氧化钼的混合薄膜层采用磁控溅射沉积或蒸发沉积。

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