[发明专利]CIGS基薄膜太阳能电池及其制备方法在审
| 申请号: | 201510311545.9 | 申请日: | 2015-06-09 |
| 公开(公告)号: | CN104867998A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
| 发明(设计)人: | 李艺明;邓国云;田宏波 | 申请(专利权)人: | 厦门神科太阳能有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/0445 | 分类号: | H01L31/0445;H01L31/18;H01L31/076 |
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| 地址: | 361009 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | cigs 薄膜 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种CIGS基薄膜太阳能电池,依次包括衬底、金属背电极层、p型光吸收层、缓冲层和n型透明导电膜层,其特征在于,所述金属背电极层与p型光吸收层之间还包括一层绝缘薄膜层,所述绝缘薄膜层上分布多个不规则孔洞。
2.根据权利要求1所述的CIGS基薄膜太阳能电池,其特征在于,所述的绝缘薄膜层为氧化硅薄膜层、氮化硅薄膜层或者氮氧化硅薄膜层。
3.根据权利要求1所述的CIGS基薄膜太阳能电池,其特征在于,所述的金属背电极层由Mo、Ti或它们的组合构成,所述p型光吸收层为黄铜矿结构并由化合物半导体构成。
4.根据权利要求1所述的CIGS基薄膜太阳能电池,其特征在于,所述的绝缘薄膜层的厚度不大于500nm。
5.一种CIGS基薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1,在衬底上形成金属背电极层;
步骤2,在金属背电极层上沉积一层含有硅和铝的氧化物薄膜层、或沉积一层含有硅和铝的氮化物薄膜层、或沉积一层硅和铝的氮氧化物薄膜层,采用无机酸溶液或碱的水溶液对所述薄膜层进行浸渍;
步骤3,对所述薄膜层进行清洗、干燥,由此形成一层分布多个不规则孔洞的绝缘薄膜层;
步骤4,在绝缘薄膜层上形成具有黄铜矿结构的p型光吸收层;
步骤5,在p型光吸收层上形成缓冲层;
步骤6,在缓冲层上形成n型透明导电层。
6.根据权利要求5所述的CIGS基薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述绝缘薄膜层为氧化硅薄膜层、氮化硅薄膜层或者氮氧化硅薄膜层。
7.根据权利要求5所述的CIGS基薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述无机酸为盐酸,所述碱的水溶液为氢氧化钠的水溶液。
8.根据权利要求5所述的CIGS基薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述的硅和铝的氧化物薄膜层、硅和铝的氮化物薄膜层、硅和铝的氮氧化物薄膜层采用磁控溅射沉积或真空蒸发沉积。
9.根据权利要求5所述的CIGS基薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述步骤2,在金属背电极层上沉积一层含有氧化硅和三氧化钼的混合薄膜层,采用氨水或碱的水溶液对所述混合薄膜层进行浸渍;所述步骤3,对所述薄膜层进行清洗、干燥,由此形成一层分布多个不规则孔洞的绝缘薄膜层,所述绝缘薄膜层为氧化硅薄膜层。
10.根据权利要求9所述的CIGS基薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述步骤2中,氧化硅和三氧化钼的混合薄膜层采用磁控溅射沉积或蒸发沉积。
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