[发明专利]一种干扰处理方法及电子设备

说明书

技术领域

本发明涉及数据处理技术，具体涉及一种干扰处理方法及电子设备。

背景技术

随着触控技术的发展，大尺寸的触控屏应用在电子设备中，如一体机。电容式触控屏包括玻璃层和薄膜涂层。当电子设备的触控显示屏平放时，受到触控显示屏自身重量的影响，触控显示屏最外层的玻璃面板会发生下沉形变；触控显示屏的尺寸越大，玻璃面板下沉的形变越严重。通常，电子设备的显示面板的像素电路设置在触控屏的内侧，当触控屏发生下沉形变时，触控屏和显示面板之间的空气间隙变薄，显示面板的像素电路会影响电容式触控屏的感应电容，且距离越近，对感应电容的干扰越大，从而影响对触控屏的触控操作，导致触控操作异常或无响应的问题。

发明内容

为解决现有存在的技术问题，本发明实施例提供一种干扰处理方法及电子设备，能够解决由于触控单元的形变导致的触控操作异常或无响应的问题。

为达到上述目的，本发明实施例的技术方案是这样实现的：

本发明实施例提供了一种干扰处理方法，所述方法包括：

检测电子设备的触控单元的第一参数；所述第一参数表征所述触控单元的形变程度；

基于所述第一参数确定所述触控单元的第一触控区域，并基于所述第一参数调整所述第一触控区域的第二参数；所述第二参数表征所述触控单元的驱动参数；

控制所述触控单元的所述第一触控区域输出所述第二参数。

上述方案中，调整后的所述第二参数与所述第一参数正相关。

上述方案中，所述基于所述第一参数确定所述触控单元的第一触控区域，包括：

基于所述第一参数确定所述第一触控区域的中心点，按所述中心点确定第一触控子区域和第二触控子区域；所述第一触控区域包括第一触控子区域和所述第二触控子区域；

其中，所述第一触控子区域和所述第二触控子区域的中心点重合，且所述第一触控子区域的面积不等于所述第二触控子区域的面积。

上述方案中，所述基于所述第一参数确定所述第一触控区域的中心点，按所述中心点确定第一触控子区域和第二触控子区域，包括：

确定所述第一参数最大的位置为所述第一触控子区域和所述第二触控子区域的中心点；

基于所述中心点按第一半径确定第一触控子区域；

基于所述中心点按第二半径确定第二触控子区域；

其中，所述第一半径不等于所述第二半径；所述第一半径与所述触控区域的尺寸具有第一比例关系；所述第二半径与所述触控区域的尺寸具有第二比例关系；所述第一比例关系与所述第二比例关系均与所述第一参数正相关。

上述方案中，当所述第二触控子区域的面积大于所述第一触控子区域的面积时，所述基于所述第一参数调整所述第一触控区域的第二参数，包括：

调整所述第一触控子区域的第二参数为M1；

调整所述第二触控子区域内且所述第一触控子区域外的触控区域的第二参数为M2；

其中，M1不等于M2；M1与M2均与所述第一参数正相关。

本发明实施例还提供了一种电子设备，所述电子设备包括：触控单元、检测单元、分析处理单元和控制单元；其中，

所述检测单元，用于检测触控单元的第一参数；所述第一参数表征所述触控单元的形变程度；

所述分析处理单元，用于基于所述检测单元检测的所述第一参数确定所述触控单元的第一触控区域，并基于所述第一参数调整所述第一触控区域的第二参数；所述第二参数表征所述触控单元的驱动参数；

所述控制单元，用于控制所述触控单元的所述第一触控区域输出所述第二参数。

上述方案中，调整后的所述第二参数与所述第一参数正相关。

上述方案中，所述分析处理单元，用于基于所述第一参数确定所述第一触控区域的中心点，按所述中心点确定第一触控子区域和第二触控子区域；所述第一触控区域包括第一触控子区域和所述第二触控子区域；其中，所述第一触控子区域和所述第二触控子区域的中心点重合，且所述第一触控子区域的面积不等于所述第二触控子区域的面积。