[发明专利]投影幕及投影幕的制作方法有效

专利信息
申请号: 201510147247.0 申请日: 2015-03-31
公开(公告)号: CN105204282B 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 庄福明;简宏达;苏方旋 申请(专利权)人: 中强光电股份有限公司
主分类号: G03B21/602 分类号: G03B21/602;G03B21/625
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 王永建
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 投影幕 制作方法
【权利要求书】:

1.一种投影幕,包括:

一透光基板,具有相对的一第一表面与一第二表面;

多个微透镜结构,位于所述透光基板的所述第一表面;

一菲涅耳结构,位于所述透光基板的所述第二表面;

一吸光层,包括一吸光部,所述吸光部与所述菲涅耳结构连接;以及

一漫射式反射层,包括分散的多个漫射式反射部,所述多个漫射式反射部与所述菲涅耳结构连接,所述多个漫射式反射部分别与所述多个微透镜结构对应,所述多个漫射式反射部相对于对应的所述多个微透镜结构的多个光轴的偏离程度随着对应的所述多个光轴上的所述菲涅耳结构的斜面的斜率的增加而增加。

2.如权利要求1所述的投影幕,其特征在于,所述菲涅耳结构为一维菲涅耳结构或二维菲涅耳结构。

3.如权利要求1所述的投影幕,其特征在于,所述多个微透镜结构为一维柱状微透镜或二维阵列微透镜。

4.如权利要求1所述的投影幕,其特征在于,所述吸光部直接连接于所述菲涅耳结构的区域为所述多个漫射式反射部直接连接于所述菲涅耳结构的区域以外的区域。

5.如权利要求1所述的投影幕,其特征在于,所述多个微透镜结构符合T/2≦f≦10T,其中f为每一所述多个微透镜结构的焦距,T为所述多个微透镜结构的底部至所述菲涅耳结构的底部在平行于所述多个光轴的方向上的距离。

6.如权利要求1所述的投影幕,其特征在于,所述菲涅耳结构包括在垂直于所述多个光轴的方向上实质上等宽但在平行于所述多个光轴的方向上实质上不等高的多个斜面。

7.如权利要求1所述的投影幕,其特征在于,所述菲涅耳结构包括在平行于所述多个光轴的方向上实质上等高但在垂直于所述多个光轴的方向上实质上不等宽的多个斜面。

8.如权利要求1所述的投影幕,其特征在于,所述吸光层还包括一底层部,所述底层部连接所述吸光部,所述多个漫射式反射部位于所述菲涅耳结构与所述底层部之间,且所述吸光部位于所述菲涅耳结构与所述底层部之间。

9.如权利要求1所述的投影幕,其特征在于,所述漫射式反射层还包括一底层部,所述底层部连接所述多个漫射式反射部,所述吸光部位于所述菲涅耳结构与所述底层部之间,且所述多个漫射式反射部位于所述菲涅耳结构与所述底层部之间。

10.如权利要求1所述的投影幕,其特征在于,所述多个微透镜结构在所述第一表面呈现随机分布。

11.一种投影幕的制作方法,包括:

提供一透光基板,其中所述透光基板具有相对的一第一表面与一第二表面;

在所述第一表面形成多个微透镜结构;

在所述第二表面形成一菲涅耳结构;

在所述菲涅耳结构上形成一吸光层,其中所述吸光层包括一吸光部;以及

在所述菲涅耳结构上形成一漫射式反射层,其中所述漫射式反射层包括分散的多个漫射式反射部,所述多个漫射式反射部分别与所述多个微透镜结构对应,所述多个漫射式反射部相对于对应的所述多个微透镜结构的多个光轴的偏离程度随着对应的所述多个光轴上的所述菲涅耳结构的斜面的斜率的增加而增加。

12.如权利要求11所述的投影幕的制作方法,其特征在于,形成所述多个漫射式反射部的步骤包括:

在所述菲涅耳结构上形成一负型感光材料层;

提供依序经由所述第一表面与所述第二表面而照射于所述负型感光材料层的一光束;以及

对所述负型感光材料层作显影处理,以移除所述负型感光材料层中未被所述光束照射的部分,而所述负型感光材料层的未被移除部分则形成所述多个漫射式反射部。

13.如权利要求12所述的投影幕的制作方法,其特征在于,形成所述吸光部的步骤包括:

在所述菲涅耳结构上形成覆盖所述多个漫射式反射部的一吸光层,其中所述吸光层中与所述菲涅耳结构直接连接的部分形成所述吸光部。

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