[发明专利]一种改性木质素基成碳剂及其制备方法在审
申请号: | 201510141566.0 | 申请日: | 2015-03-27 |
公开(公告)号: | CN104761729A | 公开(公告)日: | 2015-07-08 |
发明(设计)人: | 宋艳;李锦春;张鑫;蒋明访 | 申请(专利权)人: | 常州大学 |
主分类号: | C08H7/00 | 分类号: | C08H7/00 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 213164 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 改性 木质素 基成碳剂 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种木质素基成碳剂及其制备方法,属于技术材料领域。
背景技术
近年来,膨胀型阻燃剂因其高效、无卤、环境友好等特点,被誉为最有发展前景的阻燃剂之一,已引起人们广泛的关注。膨胀型阻燃剂主要由酸源、碳源和气源组成,其中成炭剂尤为重要,直接影响着高分子材料炭层的形成及其质量。为了克服传统低分子量成炭剂存在熔点低、水溶性较大、与基体树脂相容性差以及在材料加工或使用过程中易渗出等问题,高分子成炭剂日益成为人们研究的热点之一。
目前,文献广泛应用的高分子成炭剂主要有聚酰胺类、线性酚醛树脂(NA)、热塑性聚氨酯等,主要是以石油基单体通过缩合反应而制得的,对石油资源具有强烈的依赖性。当前,在石油资源日益枯竭、石油价格日益上涨的条件下,依赖于石油为原料的高分子材料的发展受到了严重的限制。此外,全球环保的呼声日益高涨。因此,人们对未来成碳剂的发展提出了更高的要求,在满足阻燃性能的前提下,提出了材料可持续性发展的要求。为了满足成碳剂可持续发展的要求,以及顺应阻燃高分子材料的发展趋势,人们将环境友好且可持续性发展的成炭剂作为关注的热点之一。天然高分子材料具有来源广泛、可再生、生物可降解等特点成为首选,而天然高分子——木质素则成为最佳候选材料。一方面因为木质素在自然界的存储量较为丰富,仅次于纤维素;另一方面主要是由木质素独特的组成及结构特点所决定,它是一种具有三维网络结构的天然高分子,主要为含苯基丙烷结构单元聚合物的混合物,除了含有大量的苯环结构外,还含有许多活性基团,如羟基(包括脂肪族仲羟基和酚羟基)、羧基、甲氧基等,决定了其具有独特的成炭能力、抗氧化性能、热稳定性能等。然而,有关木质素的利用率较低,每年仅有约2%的木质素被商业化应用,主要用于生产添加剂、分散剂、粘合剂和表面活性剂,其它绝大部分都被用作燃料或直接当做废弃物被焚烧或随着废水被排放到环境中。这样既大大浪费了天然生物资源,又对环境造成了污染。目前,木质素是自然界唯一没有被充分利用的可再生有机资源,因此对于木质素进行研发以提高其应用附加值的任务尤为必要和迫切。然而,未改性木质素具有自身所无法克服的缺点,如与聚合物基体材料相容性差,在空气中的成炭能力不理想,无法满足阻燃材料使用的要求。因而,需对木质素进行改性,从而弥补上述不足。已报道的改性方法通常采用三步法,将阻燃元素——磷引入木质素中,步骤繁多,后处理复杂,从而间接降低了对木质素的利用效率。然而,通过一步法将磷元素引入木质素,尤其是软木质素,尚未见有相关报道。
发明内容
本发明通过一步法对木质素进行改性,大大简化了改性步骤,并在其结构中引入阻燃元素——磷,从而提高了其在空气中的成炭能力,并改善了木质素与聚合物基体树脂的相容性。
本发明提供了一种改性木质素基成炭剂,所述成炭剂具有式 的结构:
所述Lignin为木质素。
所述R为苯基或苯氧基。
本发明的另一目的是提供上述阻燃剂的制备方法,按照下述步骤进行:将木质素和缚酸剂三乙胺加入装有溶剂的三颈烧瓶中,搅拌使体系分散均匀,然后滴加磷酰氯溶液,0.5~1.5hr滴完,升温至67~90 oC,保温反应6~12 hr,然后加入沉淀剂甲醇,洗涤、干燥。
所述木质素与磷酰氯的摩尔比为1:1~3。
所述磷酰氯与缚酸剂的摩尔比为1:1~1.3。
所述溶剂为四氢呋喃或N, N-二甲基甲酰胺,溶剂与反应物的质量比为5:1,使用与反应物质量比为25:1的甲醇沉淀剂,洗涤沉淀三次。
所述的木质素为软木质素或碱木质素。
本发明具有如下优点和有益效果:
(1)本发明提供的成碳剂属于生物基成炭剂,可再生,符合材料的可持续发展的要求;
(2)本发明所提供的成碳剂成炭能力强,与聚合物基体树脂相容性好,不易迁移,具有良好的耐热性。
(3)本发明采用一步法将磷元素引入木质素中,制备工艺简单、易行,且成本低,更有益于实现工业化生产。
附图说明
图1 为实施例1中软木质素改性前后的红外谱图;
图2为实施例1中改性后软木质素的光电子能谱图(XPS);
图3 为实施例1中软木质素改性前后的马弗炉500oC残炭的数码照片;
图4为实施列2中碱木质素改性前后的马弗炉500oC残炭的数码照片。
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